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TFT栅极刻蚀负载效应及解决方案
器件物理及器件制备 | 更新时间:2023-08-10
    • TFT栅极刻蚀负载效应及解决方案

    • Loading effect and solutions in gate etching process for TFT

    • 液晶与显示   2023年38卷第8期 页码:1054-1061
    • DOI:10.37188/CJLCD.2023-0105    

      中图分类号: TN321+.5
    • 收稿日期:2023-03-22

      修回日期:2023-04-20

      纸质出版日期:2023-08-05

    移动端阅览

  • 刘丹, 黄中浩, 黄晟, 等. TFT栅极刻蚀负载效应及解决方案[J]. 液晶与显示, 2023,38(8):1054-1061. DOI: 10.37188/CJLCD.2023-0105.

    LIU Dan, HUANG Zhong-hao, HUANG Sheng, et al. Loading effect and solutions in gate etching process for TFT[J]. Chinese journal of liquid crystals and displays, 2023, 38(8): 1054-1061. DOI: 10.37188/CJLCD.2023-0105.

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