基于TFE中SiON薄膜变化引起的OLED挖孔屏孔区彩虹纹现象

蔡汉坤; 杨金金; 李佐斌; 涂秋梅; 张国峰

doi:10.37188/CJLCD.2025-0240

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基于TFE中SiON薄膜变化引起的OLED挖孔屏孔区彩虹纹现象

器件物理及器件制备 | 更新时间：2026-04-14

- 基于TFE中SiON薄膜变化引起的OLED挖孔屏孔区彩虹纹现象
- Rainbow phenomenon in the punch-hole area of OLED displays caused by SiON thin films changes in TFE
- 液晶与显示 2026年41卷第3期页码：353-362
- 作者机构：
  
  1.天马微电子股份有限公司厦门天马显示科技有限公司，福建厦门 361105
  2.天马微电子股份有限公司武汉天马微电子有限公司，湖北武汉 430070
- 作者简介：
  
  [ "蔡汉坤，男，学士，工程师，2008年于龙岩学院获得学士学位，主要从事新型显示技术、工艺开发与量产等方面的研究。E-mail：hankun_cai@tianma.cn" ]
  [ "杨金金，男，学士，工程师，2009年于陕西科技大学获得学士学位，主要从事新型显示技术的开发与量产、薄膜晶体管、模组技术开发与量产等方面的研究。E-mail：jinjin_yang@tianma.cn" ]
  [ "张国峰，男，博士，高级工程师，2015年于华中科技大学获得博士学位，主要从事新型显示和模组技术的开发与量产等方面的研究。E-mail：guofeng_zhang@ tianma.cn" ]
- 基金信息：
  
  国家重点研发计划(2023YFB3612002);厦门市科技计划(3502Z20231052)
- DOI：10.37188/CJLCD.2025-0240
  中图分类号： TN27;TN383⁺.1
- CSTR：32172.14.CJLCD.2025-0240
- 收稿：2025-11-27，
  
  修回：2026-02-10，
  
  纸质出版：2026-03-05
- 稿件说明：
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蔡汉坤, 杨金金, 李佐斌, 等. 基于TFE中SiON薄膜变化引起的OLED挖孔屏孔区彩虹纹现象[J]. 液晶与显示, 2026,41(3):353-362.

CAI Hankun, YANG Jinjin, LI Zuobin, et al. Rainbow phenomenon in the punch-hole area of OLED displays caused by SiON thin films changes in TFE[J]. Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays, 2026, 41(3): 353-362.
蔡汉坤, 杨金金, 李佐斌, 等. 基于TFE中SiON薄膜变化引起的OLED挖孔屏孔区彩虹纹现象[J]. 液晶与显示, 2026,41(3):353-362. DOI： 10.37188/CJLCD.2025-0240. CSTR： 32172.14.CJLCD.2025-0240.

CAI Hankun, YANG Jinjin, LI Zuobin, et al. Rainbow phenomenon in the punch-hole area of OLED displays caused by SiON thin films changes in TFE[J]. Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays, 2026, 41(3): 353-362. DOI： 10.37188/CJLCD.2025-0240. CSTR： 32172.14.CJLCD.2025-0240.

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基于TFE中SiON薄膜变化引起的OLED挖孔屏孔区彩虹纹现象

Rainbow phenomenon in the punch-hole area of OLED displays caused by SiON thin films changes in TFE

DOI：10.37188/CJLCD.2025-0240