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基于TFE中SiON薄膜变化引起的OLED挖孔屏孔区彩虹纹现象
器件物理及器件制备 | 更新时间:2026-09-20
    • 基于TFE中SiON薄膜变化引起的OLED挖孔屏孔区彩虹纹现象

    • Rainbow phenomenon in the punch-hole area of OLED displays caused by SiON thin films changes in TFE

    • 液晶与显示   2026年41卷第3期 页码:353-362
    • DOI:10.37188/CJLCD.2025-0240    

      中图分类号: TN27;TN383+.1
    • CSTR:32172.14.CJLCD.2025-0240    
    • 收稿:2025-11-27,

      修回:2026-02-10,

      纸质出版:2026-03-05

    移动端阅览

  • 蔡汉坤, 杨金金, 李佐斌, 等. 基于TFE中SiON薄膜变化引起的OLED挖孔屏孔区彩虹纹现象[J]. 液晶与显示, 2026,41(3):353-362. DOI: 10.37188/CJLCD.2025-0240. CSTR: 32172.14.CJLCD.2025-0240.

    CAI Hankun, YANG Jinjin, LI Zuobin, et al. Rainbow phenomenon in the punch-hole area of OLED displays caused by SiON thin films changes in TFE[J]. Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays, 2026, 41(3): 353-362. DOI: 10.37188/CJLCD.2025-0240. CSTR: 32172.14.CJLCD.2025-0240.

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