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低温多晶硅氧化物显示驱动技术及氢扩散行为的研究进展
器件物理及器件制备 | 更新时间：2025-08-13

    • 低温多晶硅氧化物显示驱动技术及氢扩散行为的研究进展

    • Review of low-temperature polycrystalline silicon oxide display driving technology and hydrogen diffusion behavior

    • “低温多晶硅氧化物半导体混合集成显示技术研究进展，专家探索了氢阻挡方法，为提高显示产品性能提供解决方案。”
    • 液晶与显示   2025年40卷第8期 页码：1100-1114

    • DOI：10.37188/CJLCD.2025-0074    

      中图分类号： TN321+.5
    • CSTR：32172.14.CJLCD.2025-0074    

    • 收稿日期：2025-04-02，

      修回日期：2025-05-12，

      纸质出版日期：2025-08-05

    移动端阅览

  • 张西, 刘斌, 张硕, 等. 低温多晶硅氧化物显示驱动技术及氢扩散行为的研究进展[J]. 液晶与显示, 2025,40(8):1100-1114. DOI： 10.37188/CJLCD.2025-0074. CSTR： 32172.14.CJLCD.2025-0074.

    ZHANG Xi, LIU Bin, ZHANG Shuo, et al. Review of low-temperature polycrystalline silicon oxide display driving technology and hydrogen diffusion behavior[J]. Chinese journal of liquid crystals and displays, 2025, 40(8): 1100-1114. DOI： 10.37188/CJLCD.2025-0074. CSTR： 32172.14.CJLCD.2025-0074.

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