最新刊期
      2019 年 第 2 期

        材料与器件

      • 邱鑫茂,伍蓉,付婉霞,吴洪江,王宝强,陈曦,李梁梁,刘耀,林鸿涛,廖加敏
        2019, 34(2): 119-124. DOI: 10.3788/YJYXS20193402.0119
        摘要：过孔搭接失效一直是TFT-LCD行业中重点改善的不良之一。为了解决该不良，本文分析了不同刻蚀模式（ICP和ECCP）对过孔形貌的影响，利用四因子法研究ECCP模式刻蚀参数（压力、偏置/源极射频功率及O2/SF6气体比例）对刻蚀速率和均一性的影响，并得出ECCP过孔改善的最佳刻蚀参数。结果表明：ECCP模式下，氮化硅刻蚀过程中物理轰击对GI截面的下沿与Cu接触区域形成损伤后产生的缺陷，是诱发过孔腐蚀的主要因素，ICP模式无腐蚀。反应腔压力增大刻蚀速率增大，均一性下降；偏置射频功率增大，速率增大，均一性提高；源极射频功率增大，速率变化小，均一性下降；O2/SF6气体比例对速率影响小，O2含量越高，均一性越高。为达到PR胶保护GI下沿截面的目的，反应压力增大到1.7 Pa，偏置射频功率减小到30 kW，源极功率增加到30 kW，O2/SF6气体保持比例1：1后，增加了氮化硅的刻蚀量，减小PR胶的内缩量，避免物理溅射表面损伤；同时刻蚀速率达到750 nm/s，均一性达到10%，腐蚀发生率为10%~0，使ECCP刻蚀模式对过孔的腐蚀影响得到有效解决。  
        关键词：ECCP模式;过孔刻蚀;腐蚀改善   
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        发布时间：2020-07-05
      • 白金超,李小龙,韩皓,张向蒙,左天宇,吴祖谋,丁向前,宋勇志,陈维涛
        2019, 34(2): 125-129. DOI: 10.3788/YJYXS20193402.0125
        摘要：针对4-Mask工艺铜数据线腐蚀造成的锯齿状不良现象进行系统研究，发现铜腐蚀发生的工艺步骤和机理，并找到有效的措施。首先，通过显微镜对每道刻蚀工艺后铜数据线形貌进行观测，确定铜腐蚀发生的工艺步骤。接着，通过扫描电子显微镜和X射线电子能谱测量腐蚀生产物成分，对腐蚀机理提出合理解释。最后在铜腐蚀发生机理基础上，提出有效的改善措施。铜腐蚀是在有源半导体层干刻和光刻胶的灰化综合作用下发生，其主要产物为氧化铜、氯化铜。通过先进行灰化工艺然后进行有源半导体层干刻的工艺措施，在铜数据线两侧形成氧化铜保护膜，可以彻底改善铜腐蚀。改善措施可以解决铜腐蚀的问题，彻底消除铜数据线锯齿状不良。  
        关键词：4-Mask;铜腐蚀;线不良   
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        发布时间：2020-07-05
      • 张翼鹤,曹武,李轩,林永伦,邱钟毅,Ray,周航
        2019, 34(2): 130-135. DOI: 10.3788/YJYXS20193402.0130
        摘要：报道了一种新型液晶显示屏间隙支撑隔垫物的关键技术，可以替换传统的半透/灰阶曝光工艺，仅使用一张普通的全透光罩即可实现不同的支撑高度需求，并且达到遮光的效果，大幅节约了制备成本，可用于曲面或柔性显示面板。其中，主要隔垫物由两层色阻材料堆叠衬垫并覆盖平坦化层及黑色的光阻材料形成高度，辅助隔垫物由一层色阻衬垫并覆盖平坦化层及黑色的光阻材料形成高度，主/辅隔垫物的各自高度及它们之间的段差可以通过改变衬垫色阻的尺寸及平坦化层厚度进行调节。这种调节方式可以使主隔垫物高度的调节范围达0.6 μm，辅助隔垫物高度的调节范围为0.5 μm，它们之间的段差可以在0.2~1.3 μm之间调节，理想段差位于此区间内。基于上述技术制备的液晶显示屏具有良好的显示效果，可用于高世代大尺寸液晶显示面板的生产。  
        关键词：间隙隔垫物;色阻堆叠;高度调节   
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        发布时间：2020-07-05
      • 汪栋,袁剑峰,吴洪江,刘正,齐鹏煜,陈维涛
        2019, 34(2): 136-145. DOI: 10.3788/YJYXS20193402.0136
        摘要：对盒精度提升是高世代TFT-LCD面板生产线产品小型化、薄型化、高PPI（300+）与高开口率升级的必备核心技术。通过阵列（Array）与彩膜（CF）关键位置/尺寸匹配性优化与离散性优化，首次尝试阵列关键位置精度（TP）非线性补正功能，并钻研成盒（Cell）过程中基板翻转稳定化、封框胶设计与涂布工艺优化，实现电视机、显示器、笔记本、平板电脑等产品对盒精度由7.5 μm降低至5.5 μm；在解决显示器产品按压Mura与平板电脑产品像素漏光的同时，对产品开口率的贡献也随着产品PPI的升高而增加，PPI 300+产品的开口率余量提高14.8%，有效提升了高世代TFT-LCD面板生产线小尺寸/高PPI产品核心竞争力、收益性和产品群组合。另外，本文建立高世代TFT-LCD面板生产线对盒精度分析方法、对策检讨及改善的标准流程，形成新产品阵列TP非线性补正和对盒辅助封框胶的设计基准。  
        关键词：TFT-LCD面板;对盒精度;阵列;彩膜;成盒;真空对盒;关键位置精度非线性补证;封框胶   
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        发布时间：2020-07-05
      • 刘丹,陈启超,黄晟,秦刚,高朋朋,陈昊,蔡晓锐,王百强,冯家海,方亮
        2019, 34(2): 146-154. DOI: 10.3788/YJYXS20193402.0146
        摘要：光刻胶经过曝光、显影后的锥角（Taper）和关键尺寸（Develop Inspection Critical Dimension，DICD）是光刻工艺的重要参数。明确影响锥角和DICD的工艺参数，进而控制锥角和DICD，这对工艺制程至关重要。本文结合光刻制程，探究了光刻胶厚度、曝光剂量、Z值、显影时间对锥角和DICD的影响，并结合蒙特卡罗算法对显影制程进行评估。实验结果表明：光刻胶厚度每增加1 μm，DICD增加约2.6 μm。同时，厚度增加会导致光刻胶顶部的锥角逐渐由锐角向钝角演变。曝光剂量每增加10 mJ/s，DICD则减小约0.8 μm，锥角则呈阈值跳跃式上升趋势。基板在最佳焦平面曝光，DICD和锥角均一性最好。显影时间每增加10 s，DICD下降约0.3 m，锥角则增加约1.7°。最终，DICD和锥角呈负相关关系，可以通过调节光刻工艺参数对锥角和DICD进行控制。  
        关键词：光刻胶;锥角;显影后关键尺寸;光刻工艺;蒙特卡罗计算   
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        发布时间：2020-07-05
      • 杨宗顺,陶雄,钟野,李伟,王耀杰,张志聪
        2019, 34(2): 155-159. DOI: 10.3788/YJYXS20193402.0155
        摘要：在TFT-LCD（Thin film transistor-liquid crystal display）行业中，进行摩擦工艺制程时，玻璃基板与机台接触、分离；摩擦辊与玻璃基板摩擦、摩擦机台顶针上升过程，都容易产生静电击穿。针对一款在摩擦工艺过程中产生静电的GOA（Gate driver on Array）产品，结合摩擦工艺参数、生产环境，进行了一系列静电相关验证。验证发现：摩擦工艺中摩擦布寿命、环境湿度对静电发生影响很大。摩擦布寿命越靠后，静电越容易发生；湿度越大，静电越不容易发生。摩擦机台顶针上升速度、摩擦布类型也对静电发生有一定影响，顶针缓慢上升，静电不容易发生；摩擦棉布较尼龙布静电效果相对较好。而针对摩擦工艺发生的静电失效不良，光配向替代是一种根本的解决方法，导入光配向工艺后，摩擦相关静电失效不良由量产6.8%下降为0%。  
        关键词：摩擦工艺;静电击穿;GOA产品;摩擦布寿命;湿度;光配向   
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        发布时间：2020-07-05
      • 顾小祥,杨丽,曾龙
        2019, 34(2): 160-168. DOI: 10.3788/YJYXS20193402.0160
        摘要：LC配向的均一性在LCD中是必不可少的，光配向制程是通过施加紫外偏振光照射在IPS（In-Plane Switch）LCD中形成液晶配向沟槽的一种技术，然而紫外光照射的同时会损伤TFT器件，使非晶硅层产生光生载流子，电子发生迁移，导致TFT漏电流从而影响图像品质，产生横纹色差。在低频时，栅极开关时间延长，相邻扫描线之间容易发生混充电现象，部分充电截止的像素重新充电，从而使横纹色差变严重。本文从制程和电性调整方面对低频横纹色差进行了研究，结果表明：（1）紫外光照射后进行烘烤，可以有效降低漏电流，高温度（240℃）+长时间（4 200 s）改善低频横纹色差效果佳（比例：0.00%）；（2）延长Out Enable（4.8 μs）+降低Vgh（18 V）+提高GOA（Gate On Array）电路中电压VSS_Q（-7.5 V），改善低频横纹色差效果佳（比例：0.00%）。  
        关键词：光配向;低频横纹色差;漏电流   
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        发布时间：2020-07-05
      • 卜倩倩,王丹,邱云,孙晓,胡伟频,姜明宵,魏从从,王纯
        2019, 34(2): 169-176. DOI: 10.3788/YJYXS20193402.0169
        摘要：反射显示具有超低功耗、高照度条件下易读性好、易于实现柔性、价格低廉等特点，广泛应用于各显示领域，包括电子纸、电子指示牌、电子货架标签、可穿戴显示等。特别是户外环境下使用的显示器件，对低功耗、高照度条件下易读性等有着显著的需求，因而反射类显示得到了快速的发展。为了更好地进行反射类显示的技术开发与推广，本文系统分析了3种主流的反射类显示技术，详细地阐述了3种主流反射类显示核心技术、显示原理与方案，并从显示从业者的角度对反射类显示技术的开发现状及发展进行了思考。  
        关键词：反射显示;液晶显示;电润湿显示;电泳显示   
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        发布时间：2020-07-05

        图像处理

      • 韩亚君,杨德东,李勇,李雪晴
        2019, 34(2): 177-187. DOI: 10.3788/YJYXS20193402.0177
        摘要：针对红外目标分辨率低、对比度差、信噪比低、纹理信息缺失等特点，提出一种融合多特征的红外目标跟踪算法。利用背景感知相关滤波器生成大量真实样本，对红外目标提取HOG特征和运动特征，通过线性求和方式进行特征融合，更好地发挥各自特征优势，实现对红外目标运动的精准跟踪。另外，提出使用空间加权窗代替传统相关滤波器中的余弦窗，可以更加突出目标的中心位置，同时也能很好地抑制边缘效应。采用VOT-TIR 2016数据集对算法性能进行评估，同时和15种流行算法进行比较。结果表明，本文算法在精确度和成功率上的得分分别为0.751和0.697，在精确度和成功率指标方面分别提高了8.8%和15.4%，具有一定的研究价值。  
        关键词：红外目标跟踪;背景感知;特征融合;空间窗加权   
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        发布时间：2020-07-05
      • 吴水琴,毛耀,刘琼,李志俊
        2019, 34(2): 188-193. DOI: 10.3788/YJYXS20193402.0188
        摘要：针对图像跟踪领域中因遮挡产生的漂移问题，提出一种基于直方图比的背景加权的Mean Shift算法和Kalman预测滤波器融合的方法。本文方法通过改进目标模型来优化Bhattacharyya系数值，增大目标正常跟踪状态下和遮挡状态下Bhattacharyya系数的差值，提高遮挡判定的有效性，进而提高遮挡时的跟踪性能。通过实验证明，基于直方图比的背景加权的Mean Shift算法和Kalman预测滤波器融合的方法可有效解决遮挡跟踪问题。  
        关键词：遮挡跟踪;Mean Shift算法;Kalman预测;背景加权   
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        发布时间：2020-07-05
      • 潘定平,吴学忠
        2019, 34(2): 194-199. DOI: 10.3788/YJYXS20193402.0194
        摘要：在分析将rgb转换到RGBW的映射算法本质和已有几种算法的基础上，阐述了先决定亮度因子n再最大化利用白色子像素的算法研究策略，并据此提出了一种新算法，未来还可通过主观实验适当调整新算法的权重因子以获得更好的显示效果。通过MATLAB仿真分析证明此算法在具有较优亮度的同时具有最好的白色子像素利用率，大大降低了能耗，延长了显示设备的使用寿命。通过本文算法的研究策略不仅有助于优秀新算法的提出，而且可用于优化已有几种算法的白色子像素利用率，进而推动RGBW显示技术的普及推广。  
        关键词：RGBW;映射算法;亮度因子;白色子像素利用率;功耗   
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        发布时间：2020-07-05
      • 王春阳,刘少英,张月
        2019, 34(2): 200-206. DOI: 10.3788/YJYXS20193402.0200
        摘要：靶场弹道坐标测量的精度和稳定性是检测武器系统性能的重要技术指标。为获取高精度的弹道三维坐标，提出了使用Helmert方差分量估计、最小二乘多站交会-Helmert方差分量估计两种方法来处理雷达和光电经纬仪的观测数据。首先，介绍了雷达、光电经纬仪交会测量原理和数学模型，以及Helmert方差分量估计模型及计算过程。然后，研究了将验后估计思想加入到交会模型的实现方法。最后通过对算例数据进行解算分析，证明本文方法的有效性和可行性。结果表明：最小二乘多站交会与Helmert方差分量估计结合法，在X、H、Z方向上的解算精度均小于1 m。  
        关键词：雷光联测;弹道坐标测量;Helmert方差分量估计   
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        发布时间：2020-07-05
      • 于跃,李东明
        2019, 34(2): 207-214. DOI: 10.3788/YJYXS20193402.0207
        摘要：针对目前医学细胞图像分割出现的误分割、人为主观因素影响时间效率低等特点，提出了一种结合基于中国餐馆过程的马尔可夫随机场（MRF）细胞图像自动分割方法。首先对图像进行去噪处理，然后采用中国餐厅过程的无监督模型对马尔科夫随机场进行自动确定参数，最后采用条件迭代模式（ICM）方法实现MRF在图像分割并对其口腔粘膜细胞图像进行分割实验，并与传统的马尔可夫随机场图像分割和3种不同的细胞图像分割方法进行比较。结果表明，本文提出的方法无需事先估计参数值，在精确度上能达到96%以上。通过本文算法基本能够准确找到要分割的双核和微核细胞，为后期细胞图像识别打基础，有效解决分割受到人为主观因素影响和精度差等问题。  
        关键词：中国餐馆过程模型;马尔可夫随机场;细胞图像;图像分割   
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        发布时间：2020-07-05
      • 夏振平,胡伏原,程成,顾敏明
        2019, 34(2): 215-219. DOI: 10.3788/YJYXS20193402.0215
        摘要：立体视觉中，虚拟的中央眼是立体空间定向的依据。中央眼存在个体差异，然而现有虚拟现实技术在立体影像呈现过程中尚未考虑到中央眼的个体差异。模拟的射击实验结果表明，人眼视觉系统对立体空间中，物体之间相对方向的判断极其敏感，实际中央眼位置与理想情况之间的微小偏移会带来显著性的感知差异。虚拟现实技术模拟真实场景的拟真性和交互性可以通过考虑个体中央眼位置的方式进行提升。本文通过对人眼双目定向理论的分析，提出了基于中央眼位置的虚拟空间重构方法，采用对立体相机系统反方向平移的方法补偿由于中央眼偏移带来的偏差。所提出的方法有望为虚拟现实技术拟真性和交互性的提升提供理论依据。  
        关键词：虚拟现实;中央眼;空间定向;空间重构   
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        发布时间：2020-07-05
      • 陈清江,张雪,柴昱洲
        2019, 34(2): 220-227. DOI: 10.3788/YJYXS20193402.0220
        摘要：针对传统的基于先验知识与假设条件的去雾算法在实际应用中受到太多限制的问题，本文提出了一种基于端到端卷积神经网络的去雾算法，即通过学习雾天图像与清晰图像之间的映射关系实现图像去雾。首先，该算法采用了多尺度映射，通过多尺度的卷积提取出雾霾图像的较多细节信息特征；其次，运用反卷积以减少训练网络的复杂性；最后，结合浅层与深层的合并机制将删除特征图中的伪像素，提高恢复无雾图像的质量。实验结果表明，本文提出的去雾算法在自然雾天图像和合成雾天图像上均优于其它对比算法，并且合成雾天图像在结构相似度（SSIM）和峰值信噪比（PSNR）两个重要的图像评价指标上都取得了良好的表现。  
        关键词：卷积神经网络;多尺度映射;反卷积;大气散射模型;激活函数   
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        发布时间：2020-07-05
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