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胶体量子点直接光刻技术的发展与应用
量子点发光器件 | 更新时间：2026-01-26

    • 胶体量子点直接光刻技术的发展与应用

    • Development and applications of direct photolithography of colloidal quantum dots

    • “量子点发光二极管（QLED）技术的最新进展，专家探讨了量子点直接光刻技术，为高分辨率显示器件发展提供新方向。”
    • 液晶与显示   2026年41卷第1期 页码：163-170

    • DOI：10.37188/CJLCD.2025-0198    

      中图分类号： TN383+.1;O482.31
    • CSTR：32172.14.CJLCD.2025-0198    

    • 收稿：2025-09-23，

      修回：2025-10-16，

      纸质出版：2026-01-05

    移动端阅览

  • 黄凌祥, 常赛豪, 满忠伟, 等. 胶体量子点直接光刻技术的发展与应用[J]. 液晶与显示, 2026,41(1):163-170. DOI： 10.37188/CJLCD.2025-0198. CSTR： 32172.14.CJLCD.2025-0198.

    HUANG Lingxiang, CHANG Saihao, MAN Zhongwei, et al. Development and applications of direct photolithography of colloidal quantum dots[J]. Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays, 2026, 41(1): 163-170. DOI： 10.37188/CJLCD.2025-0198. CSTR： 32172.14.CJLCD.2025-0198.

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