Les diodes électroluminescentes à points quantiques (QLED) sont considérées comme de solides candidates pour la prochaine génération de dispositifs d'affichage haute résolution et à faible consommation d'énergie, grâce à leur haute pureté des couleurs, leur haute efficacité lumineuse, leur bonne stabilité, leur traitement en solution, leur réglage complet des couleurs et leur bonne compatibilité avec les procédés existants. La réalisation de la structuration des points quantiques est une condition préalable à leurs applications d'affichage, ce qui a conduit à l'émergence de diverses techniques de lithographie. Actuellement, la technologie de structuration des QLED évolue des méthodes de fabrication complexes et dommageables pour la performance, telles que la lithographie traditionnelle et l'impression jet d'encre, vers des méthodes de lithographie directe à haute résolution et sans dommages. Cet article passe en revue les principes fondamentaux de la lithographie directe des points quantiques, en mettant l'accent sur les mécanismes de réticulation de trois groupes photosensibles (azide, azo, liaison disulfure), la performance de la lithographie et leur impact sur la performance du QLED. Les tendances futures du développement de la lithographie directe des points quantiques et l'évolution des affichages QLED sont également prévues, offrant une référence importante pour le développement futur des technologies d'affichage QLED structurées.

points quantiques;lithographie directe;structuration;QLED;agents de réticulation lithographique