Los diodos emisores de luz de puntos cuánticos (QLED) se consideran candidatos fuertes para dispositivos de pantalla de próxima generación con alta resolución y bajo consumo de energía, debido a su alta pureza de color, alta eficiencia de emisión, buena estabilidad, procesamiento en solución, ajuste de color completo y buena compatibilidad con los procesos existentes. La realización del patrón de puntos cuánticos es un requisito previo para sus aplicaciones en pantalla, lo que ha dado lugar a la aparición de diversas técnicas de litografía. Actualmente, la tecnología de patrón de QLED está evolucionando desde métodos de preparación complejos y dañinos para el rendimiento como la litografía tradicional y la impresión por inyección de tinta, hacia métodos de alta resolución y sin daños como la litografía directa. Este artículo revisa los principios básicos de la tecnología de litografía directa de puntos cuánticos, con un enfoque en los mecanismos de reticulación de tres grupos fotosensibles (azida, azo, enlaces disulfuro), el rendimiento de la litografía y su influencia en el rendimiento del QLED. También se predicen las tendencias futuras en el desarrollo de la litografía directa de puntos cuánticos y la evolución de los displays QLED, proporcionando un referente para el desarrollo futuro de la tecnología de displays QLED con patrones.

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