Quantenpunkt-Leuchtdioden (QLED) gelten aufgrund ihrer hohen Farbreinheit, hohen Leuchtdichte, guten Stabilität, Lösungsverarbeitung, vollfarbiger Anpassung und guten Kompatibilität mit bestehenden Verfahren als vielversprechende Kandidaten für die nächste Generation hochauflösender, energieeffizienter Anzeigegeräte. Die Realisierung der Musterung von Quantenpunkten ist die Voraussetzung für deren Anzeigeanwendungen, was zur Entstehung verschiedener Lithographietechniken führte. Derzeit entwickelt sich die QLED-Mustertechnik von traditionellen Lithographie- und Inkjet-Druckverfahren mit komplexen Prozessen und hoher Leistungsverluste hin zu hochauflösenden, schadensfreien Direktlithographiemethoden. Dieser Artikel gibt einen Überblick über die grundlegenden Prinzipien der Direktlithographie von Quantenpunkten mit Schwerpunkt auf den Vernetzungsmechanismen dreier lichtempfindlicher Gruppen (Azid-, Azo- und Disulfidgruppen), deren Lithographieeigenschaften und deren Einfluss auf die QLED-Leistung. Es werden zukünftige Entwicklungstrends der Direktlithographie von Quantenpunkten und die Weiterentwicklung von QLED-Anzeigen prognostiziert, was für die zukünftige Entwicklung der QLED-Mustertechnologie von Referenzwert ist.

Quantenpunkte;Direktlithographie;Musterung;QLED;Lithographiestrukturen