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氧化物半导体薄膜晶体管的研发现状与发展趋势分析
器件物理及器件制备 | 更新时间:2026-09-12
    • 氧化物半导体薄膜晶体管的研发现状与发展趋势分析

    • Analysis of research status and development trends in oxide semiconductor thin-film transistors

    • 液晶与显示   2026年41卷第4期 页码:509-522
    • DOI:10.37188/CJLCD.2026-0036    

      中图分类号: TN321+.5
    • CSTR:32172.14.CJLCD.2026-0036    
    • 收稿:2026-03-13,

      修回:2026-03-20,

      纸质出版:2026-04-05

    移动端阅览

  • 熊雨婷, 任俊彦, 梁凌燕, 等. 氧化物半导体薄膜晶体管的研发现状与发展趋势分析[J]. 液晶与显示, 2026,41(4):509-522. DOI: 10.37188/CJLCD.2026-0036. CSTR: 32172.14.CJLCD.2026-0036.

    XIONG Yuting, REN Junyan, LIANG Lingyan, et al. Analysis of research status and development trends in oxide semiconductor thin-film transistors[J]. Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays, 2026, 41(4): 509-522. DOI: 10.37188/CJLCD.2026-0036. CSTR: 32172.14.CJLCD.2026-0036.

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相关作者

熊雨婷
任俊彦
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梁蓬霞
贺泽民
张瑞寅
苗宗成

相关机构

中国科学院 大学材料科学与光电技术学院
中国科学院 宁波材料技术与工程研究所,原子尺度与微纳制造实验室
京东方科技集团股份有限公司
西北工业大学 光电与智能研究院
西京学院 电子信息学院, 材料与能源科学技术研究院
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