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2020
年
第
3
期
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封面故事
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材料与器件
在Liq中掺杂Yb作为电子注入层修饰电极Yb/Al
林志超,张方辉,王江南,赵会,赵紫玉,薛震,丁磊
2020, 35(3): 189-197. DOI: 10.3788/YJYXS20203503.0189
摘要:基于绿光器件ITO/HAT-CN/TAPC/CBP:Ir(ppy)
3
/TmPyPB/Liq/Al,通过在Liq中掺杂不同浓度的Yb作为电子注入层修饰电极,研究Yb不同浓度的掺杂比对器件性能的影响。研究表明,在Liq中掺杂微量的Yb能有效提高器件的光电性能。当Yb的掺杂比为1.85%时,器件性能最好。在0.25 mA/cm
2
的条件下点亮,启亮电压为3.65 V,最高亮度为26 720 cd/m
2
,最高电流效率为87.07 cd/A,最高功率效率为74.89 lm/W,最高外量子效率为24.07%。与参考器件对比,其最高亮度提高2 181 cd/m
2
,最高电流效率提高18.42 cd/A,最高功率效率提高10.6 lm/W,最高外量子效率提高5.27%。
关键词:OLED;绿光器件;修饰电极;Yb
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发布时间:2020-08-12
AMOLED亮点不良修复方法
朱世楠,李楠
2020, 35(3): 198-204. DOI: 10.3788/YJYXS20203503.0198
摘要:为了提高有源矩阵有机发光二极管面板(AMOLED)亮点不良修复成功率,优化设备性能,本文研究一种AMOLED亮点修复方法,实现阴极隔离原理。由装置激光调形机构(Slit)的激光修复设备构造一束固定形状和频率的脉冲激光束。该激光束透过AMOLED面板封装层,照射目标亚像素上方阴极膜层,使目标亚像素发光层与面板整体阴极隔断,阴极电子无法迁移至目标亚像素发光层,目标亚像素由亮点变为暗点,达到亮点修复目的。提出并比较了矩形修复法与线修复法,结果表明:矩形修复方法成功率为33.5%,容易出现封装层损伤,信赖性风险高;线修复方法成功率为100%,无封装层损伤风险,信赖性风险低。将线修复方法导入量产后,亮点不良修复良率由96.9%提升至100%。
关键词:有源矩阵有机发光二极体面板;亮点;修复;阴极
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发布时间:2020-08-12
阵列基板周边设计对聚酰亚胺液扩散的影响
刘金贵,殷盛杰,顾可可,李光强,申名,李啸,杨妮,许亨艺,罗建勇
2020, 35(3): 205-210. DOI: 10.3788/YJYXS20203503.0205
摘要:为提高产能,笔记本电脑超高级超维场开关(HADS)显示产品的聚酰亚胺(PI)膜涂布方式从滚筒涂布的感光树脂转印版(APR)转印变更为喷墨打印,涂布方式的变更造成了PI液滴在面板周边V
com
过孔和走线密集处扩散困难,难以扩散的PI液滴在面板边缘聚集形成周边黑线不良。首先,通过变更PVX(passivation SiN
x
,钝化层)掩膜版解决V
com
过孔周边PI液扩散不均问题,即通过改变面板周边过孔周期、尺寸以及距离像素区间距来减小过孔存在的影响,GP(Gate pad)侧过孔数量变为原来1/8,过孔面积比原来减小了98%,DP(Date pad)侧过孔数量变为原来的1/9,过孔面积比原来减小99%,同时DP侧过孔与像素区间距增大60%,PVX掩膜版变更极大地改善了PI液滴在过孔周围的扩散均匀性,最终周边黑线发生率从100%减小为6.6%。其次,通过变更喷墨打印涂布工艺来减小面板周边PI液积聚程度,我们开发出喷墨打印边缘补正功能,即保持像素区膜厚不变,面板边缘区域膜厚减少。边缘区域PI液的减少降低了该区域PI液积聚的可能性,边缘补正功能使得周边黑线发生率从6.6%降至0.5%。再次,阵列基板采用条形涂覆方式,即GP侧PI液全涂覆,周边黑线不良发生率降至0.05%。通过变更PVX掩膜版设计和喷墨打印涂布工艺参数,周边黑线不良发生率从100%减小为0.05%,满足量产需求。
关键词:TFT基板;周边设计;聚酰亚胺液;扩散
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发布时间:2020-08-12
磁控溅射法制备的MoO
x
薄膜材料特性
王效坤,房伟华,刘飞
2020, 35(3): 211-218. DOI: 10.3788/YJYXS20203503.0211
摘要:MoO
x
材料因其较低的反射率,在窄边框液晶显示技术等领域是一种理想的材料。本文利用磁控溅射法在玻璃基板上制备MoO
x
薄膜,并在MoO
x
薄膜上沉积不同的金属层,采用不同的方法研究MoO
x
薄膜及其搭配金属层的特性。测试结果表明:MoO
x
和玻璃基板的粘附性较好,无须打底膜可在玻璃基板上直接沉积;MoO
x
和Al及Cu的粘附效果优于Mo及MTD等Mo合金;MoO
x
薄膜的方块电阻值较大,搭配金属层时可忽略不计;MoO
x
厚度对搭配金属膜的反射率及色差影响很大,而金属层厚度影响较小。对于采用MoO
x
作低反材料的工艺,可以根据MoO
x
材料的特性选择搭配不同的金属层,在满足反射率等要求的基础上,可通过调整MoO
x
层厚度来调整产品的色差,以满足客户的颜色喜好需求。
关键词:低反射率;磁控溅射;MoO
x
;窄边框
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发布时间:2020-08-12
基于以顶层ITO为像素电极设计的产品工艺优化
吕艳明,操彬彬,栗芳芳,安晖,叶成枝,李法杰,杨增乾,彭俊林,冯耀耀,刘增利,陆相晚,李恒滨
2020, 35(3): 219-226. DOI: 10.3788/YJYXS20203503.0219
摘要:HADS产品通常使用有机膜材料来减小寄生电容,以实现高像素密度(PPI)显示。本文对如何改善以顶层ITO为像素电极(Pixel Top)设计的有机膜产品的公共电极ITO与数据线间短路(DCS)不良进行了工艺优化研究。首先,通过显微镜、聚焦离子束对HADS有机膜产品DCS不良发生机理进行了分析,进而提出了第一钝化绝缘层刻蚀工序省略、保留第一钝化绝缘层至公共电极与像素电极间第二钝化绝缘层刻蚀时进行“一步刻蚀”的工艺流程变更改善方案。针对新工艺流程验证中TFT栅极过孔处第一钝化绝缘层出现的底切不良,通过调整等离子增强化学气相沉积成膜参数改善第一钝化绝缘层膜质,并选取最优成膜条件进一步调整干法刻蚀参数改善刻蚀形貌,获得了优良的栅极过孔刻蚀坡度角。优化后的“一步刻蚀”工艺进行的TFT基板,其栅极过孔第一钝化绝缘层坡度角小于40°,与栅极绝缘层间无明显刻蚀台阶。量产验证有机膜缺失导致的DCS发生率降为0。通过优化工艺,在降低产品不良率的同时还减少了工艺步骤,提升了产能。
关键词:高开口率高级超维场转换技术;有机膜;等离子增强化学气相沉积;干法刻蚀
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发布时间:2020-08-12
背光模组复合光学膜片的应用
罗运安,叶芸,郭太良,肖慈斌
2020, 35(3): 227-233. DOI: 10.3788/YJYXS20203503.0227
摘要:为了实现液晶显示器的轻薄高亮化,进一步减小背光模组的厚度和成本,光学膜片的复合化已成为各大光学膜片厂商研究开发的重点。本文对背光模组的结构以及液晶显示用光学膜片的光学效能做了描述,利用light tools软件对光学膜片复合化过程中的关键影响因子做出了研究,探讨了棱镜顶角角度、棱镜周期(Pitch)与棱峰刺入深度(D)对复合结构光学膜片的影响机制;并对2张膜片的复合结构以及3张膜片的复合结构进行了建模仿真,模拟其光学效果,分别从中心亮度、均匀度、可视角角度做出评估分析,得到不同组合架构的光学复合结构对于显示画面的改善特点,并通过实验对仿真进行了验证。通过仿真与实验,探究得到了棱镜的顶角角度90°,棱镜的周期为24~54 μm,刺入深度为1~3 μm时,复合光学膜片的辉度均匀度可达到80%以上,该研究对于实际的复合光学膜片的应用开发具有一定的指导意义,将有助于加快背光模组的开发进度,减少背光模组的厚度和成本。
关键词:液晶显示器;背光模组;光学膜片;复合化
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发布时间:2020-08-12
基于图像局部亮度的液晶显示器动态调光算法
赵晨,吕国强,吴磊,诸黎明,冯奇斌
2020, 35(3): 234-241. DOI: 10.3788/YJYXS20203503.0234
摘要:为了合理降低液晶显示器的背光功耗,抑制像素补偿导致的截断噪声,减少显示图像的颜色和亮度失真,对基于图像特征的液晶显示器动态调光算法进行研究。首先,根据液晶显示器特性介绍了区域调光算法处理过程,分析了截断噪声产生的原因。提出了基于图像局部亮度的液晶显示器动态调光算法,即基于最大值法得到初始背光值,根据图像局部区域亮度与初始背光分布图对应区域亮度的相似程度修正初始背光值,通过模糊-掩模方法模拟背光的混光扩散过程,结合像素补偿得到调光图像。实验结果表明,使用基于图像局部亮度的液晶显示器动态调光算法处理后,背光功耗平均降低约31.54%;截断噪声平均低至像素总和的1.17%;L
*
a
*
b颜色空间峰值信噪比(LabPSNR)平均达到37.11dB。应用该算法能够合理降低显示器的背光功耗,使图像的截断噪声得到显著抑制,颜色和亮度失真明显改善,对于各类图像都具有良好的适用性。
关键词:液晶显示;动态调光;区域调光;截断噪声;局部亮度
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发布时间:2020-08-12
电路设计与应用
基于STM32单片机驱动的双液体棱镜
胡思哲,葛屹,邓天豪,张谦
2020, 35(3): 242-249. DOI: 10.3788/YJYXS20203503.0242
摘要:电压驱动的电润湿棱镜往往需要连接体积较大的附加电源装置进行手动调节,不利于电控系统与棱镜器件的集成,且不符合电润湿液体棱镜装置实际应用中体积小、便携化的要求。针对上述问题,本文设计了一种基于STM32单片机的电控系统,通过单相移相调压技术将直流电源输出的较低电压经脉宽调制升高到所需的电压,根据需求调整4路输出电压,驱动双液体棱镜实现二维液面偏转,使单元器件使用方便快捷且易于控制。采用COMSOL软件对模型进行仿真分析,验证了器件模型的正确性。
关键词:电润湿器件;电控系统设计;系统仿真分析
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发布时间:2020-08-12
一种组合GAUSS-filter、SOBEL、NMS、OTSU 4种算法的图像边缘检测的FPGA实现
张灏,王素珍,郑宇,王伟,李潍志,王鹏,任贵珊,马家麟
2020, 35(3): 250-261. DOI: 10.3788/YJYXS20203503.0250
摘要:边缘检测是分离图像目标主体和背景的主要依据。通过检测图像上灰度显著变化的像素点集合来确定图像的边缘。目前边缘检测的方法大多综合应用两个算法来提高边缘检测质量。本文在FPGA上综合应用GAUSS-filter、SOBEL、NMS、OTSU等多种算法进行图像边缘检测。将原始采集到的彩色图像转换成灰度图像,先对图像进行高斯平滑处理,消除干扰性噪声;应用SOBEL算法计算图像梯度值,再应用NMS算法处理灰度,挑出轮廓边缘梯度值最大的灰度像素集合;最后应用OTSU算法自适应地确定图像门限阈值进行边缘检测。该方法不仅能刻画出图像的边缘,而且还能对边缘进行细化,实验结果显示对不同的图像都有很好的检测效果。本文所提出的在FPGA上实现的图像边缘检测方法具有准确、实时、高速等特点,能够应用到许多领域中。
关键词:FPGA;SOBEL;NMS;OTSU
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发布时间:2020-08-12
图像处理
宽色域视频图像技术研究与发展
宇欣,雷志春
2020, 35(3): 262-271. DOI: 10.3788/YJYXS20203503.0262
摘要:简述了宽色域视频图像技术的意义,介绍了可视色域、常规色域、主流宽色域视频标准及其目标色域。鉴于RGB三原色配色理论的缺点,介绍了多原色宽色域技术。对宽色域视频图像技术的发展进行了阐述,对现有的扩展色域技术进行了分类,并对当前主流的三原色和多原色宽色域技术及其相应的成像与显示设备进行了详细描述。最后讨论了宽色域技术待解决的问题以及未来的发展趋势,为相关研究人员了解宽色域视频图像技术提供了参考。
关键词:宽色域;液晶;视频显示;成像;多原色
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发布时间:2020-08-12
基于密集连接生成对抗网络的图像颜色迁移
王晓宇,朱一峰,郗金洋,王尧,段锦
2020, 35(3): 272-280. DOI: 10.3788/YJYXS20203503.0272
摘要:针对传统颜色迁移算法在处理图像时存在颜色误传递,色彩不够自然等问题,提出一种基于密集连接生成对抗网络的图像颜色迁移方法。在训练过程中,训练生成网络生成颜色迁移图像。生成网络中的编码层利用密集连接网络跨层连接的优点促进颜色特征重用,加快网络的收敛速度,同时在转换层采用3层残差模块代替原始的两层残差模块更好地组合图像的不同特征。训练判别网络使其辨别原图像与生成的迁移图像间的差别。本文判别网络中用-log函数计算模型损失,加快训练初期更新速度。实验结果表明,与同类模型相比,本文方法结果图像保留更多细节,且能够抑制部分噪声,整体更接近自然图像。
关键词:生成对抗网络;颜色迁移;密集连接
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发布时间:2020-08-12
基于变换域中的自适应纹理图像检索
秦智康,张衡阳
2020, 35(3): 281-286. DOI: 10.3788/YJYXS20203503.0281
摘要:为了提升图像检索效率,本文提出了基于变换域的自适应纹理图像检索算法。该算法首先使用二维离散小波变换来减小测试图像和训练的图像的尺寸,并进一步在灰度共生矩阵应用2级分解图像的LL分量来进行训练和测试,从而提取图像的纹理特征。最后结合形状特征和颜色特征通过融合不同的距离分类器来检索相似的图像。为了提升算法的自适应能力,本文引入了交互式遗传算法来动态调整参数。实验结果表明,在训练迭代次数为30,60,100的情况下,本文算法的准确率达67%以上,在图像检索领域有较高的应用价值,具有性能稳定可靠、精度高等优点。
关键词:图像纹理;图像检索;二维离散小波变换;距离分类器
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发布时间:2020-08-12
基于伪随机的图像水印算法
唐永军
2020, 35(3): 287-291. DOI: 10.3788/YJYXS20203503.0287
摘要:由于通信技术和互联网的不断发展,诸多互联网应用如大规模网络游戏、网络支付和金融防伪都受到了安全方面的威胁和风险。为了能够在传输过程中对数据进行加密从而防止恶意篡改,本文在研究分析了主流水印算法的隐蔽性和鲁棒性基础上,提出了一个基于伪随机算法的离散小波变换水印方案。该方案将二进制伪随机数嵌入到离散小波变换(DWT)的HL和LH域中,利用伪随机数提升了数字水印的隐蔽性和鲁棒性。仿真结果表明,该算法具有较高的安全性和鲁棒性,能够有效抵抗各种攻击算法如SPIHT压缩、高斯滤波、椒盐噪声等,其峰值信噪比(PSNR)和归一化相关(NC)值都比传统水印算法有10%以上的提升。本文算法在整体上能满足数字水印的性能稳定、抗攻击能力强、隐蔽性高等要求。
关键词:离散小波变换;水印算法;伪随机噪声序列;峰值信噪比
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发布时间:2020-08-12
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