您当前的位置:
首页 >
文章列表页 >
TFT-LCD摩擦工艺过程中静电放电不良分析及改善设计
材料与器件 | 更新时间:2020-12-14
    • TFT-LCD摩擦工艺过程中静电放电不良分析及改善设计

    • ESD related defects analysis and improvement design solution in TFT-LCD rubbing process

    • 液晶与显示   2019年34卷第8期 页码:733-738
    • DOI:10.3788/YJYXS20193408.0733    

      中图分类号: TN141.9
    • 收稿日期:2019-03-26,

      录用日期:2019-5-8,

      纸质出版日期:2019-08-05

    移动端阅览

  • 王国磊, 陈鹏, 李恒滨, 等. TFT-LCD摩擦工艺过程中静电放电不良分析及改善设计[J]. 液晶与显示, 2019,34(8):733-738. DOI: 10.3788/YJYXS20193408.0733.

    Guo-lei WANG, Peng CHEN, Heng-bin LI, et al. ESD related defects analysis and improvement design solution in TFT-LCD rubbing process[J]. Chinese journal of liquid crystals and displays, 2019, 34(8): 733-738. DOI: 10.3788/YJYXS20193408.0733.

  •  
  •  

0

浏览量

90

下载量

0

CSCD

文章被引用时,请邮件提醒。
提交
工具集
下载
参考文献导出
分享
收藏
添加至我的专辑

相关文章

ITO连接过孔电阻定量计算与设计方法
TFT-LCD发粉不良改善及机理分析
氧化物薄膜晶体管刻蚀阻挡层PECVD沉积条件研究
TFT-LCD Stage Mura的研究与改善
TFT-LCD中升华物组分对柱状隔垫物性能的影响

相关作者

高玉杰
江鹏
朱宁
陈鹏
王超
周焱
邵喜斌
陈希

相关机构

武汉京东方光电科技有限公司
北京京东方显示技术有限公司
京东方科技集团股份有限公司合肥鑫晟工厂
北京京东方显示技术有限公司
京东方显示技术有限公司
0