刻蚀液的调整对Array Mura影响的研究

冀新友; 张家祥; 王亮; 张洁; 卢凯; 黄东升; 陈思; 王威

doi:10.3788/YJYXS20183302.0138

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刻蚀液的调整对Array Mura影响的研究

材料与器件 | 更新时间：2020-07-06

- 刻蚀液的调整对Array Mura影响的研究
- Effects of array Mura by adjustment of etchant
- 液晶与显示 2018年33卷第2期页码：138-143
- 作者机构：
  
  北京京东方光电科技有限公司, 北京 100176
- 作者简介：
  
  [ "冀新友(1985-),男,北京人,硕士,工程师,主要从事与液晶面板相关的技术研发工作。E-mail:jixinyou@boe.com.cn" ]
- 基金信息：
  
  京东方TFT特性研发基金;Supported by TFT Characteristic Research Fund of BOE
- DOI：10.3788/YJYXS20183302.0138
  中图分类号： TN141.9
- 收稿日期：2017-07-15，
  
  录用日期：2017-11-3，
  
  纸质出版日期：2018-02-05
- 稿件说明：
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冀新友, 张家祥, 王亮, 等. 刻蚀液的调整对Array Mura影响的研究[J]. 液晶与显示, 2018,33(2):138-143.

Xin-you JI, Jia-xiang ZHANG, Liang WANG, et al. Effects of array Mura by adjustment of etchant[J]. Chinese journal of liquid crystals and displays, 2018, 33(2): 138-143.
冀新友, 张家祥, 王亮, 等. 刻蚀液的调整对Array Mura影响的研究[J]. 液晶与显示, 2018,33(2):138-143. DOI： 10.3788/YJYXS20183302.0138.

Xin-you JI, Jia-xiang ZHANG, Liang WANG, et al. Effects of array Mura by adjustment of etchant[J]. Chinese journal of liquid crystals and displays, 2018, 33(2): 138-143. DOI： 10.3788/YJYXS20183302.0138.

摘要

生产中经常出现常温污渍（Array Mura）不良。针对TFT面板布线细线化及低电阻电极的要求，纯铝工艺迫切需要新型湿法刻蚀液的对应。目前，本文通过对比3种产线中测试的刻蚀液，得出Array Mura的产生主要与纯铝工艺的顶层金属钼的刻蚀后缩进有关，其中测试的刻蚀液C可以有效控制金属钼的缩进至0.1

m以内。控制顶层金属钼缩进的主要原因与刻蚀液C的硝酸浓度和添加剂含量有关，通过控制药液进而控制了刻蚀过程内的电化学反应，最终使得Array Mura得到了有效的改善，后续无相关不良发生。采用刻蚀液C刻蚀后线宽、坡度角等相关刻蚀参数均满足要求，目前已经导入量产使用。

Abstract

Stainin room temperature (Array Mura) can be found in production. Aiming at the requirements of high precise and low resistance circuit

a new type of wet etching etchant is necessary for the manufacturing in aluminum technology. By comparing three kinds of etchant

we made a conclusion that the shrinkage of Top Mo has played a significant role in the producing of Array Mura. The concentration of nitric acid and other additive can control the process of electrochemical reaction which can drive an obvious improvement in Array Mura by controlling the shrinkage of Top Mo within 0.1

m. The wet etching etchant C have already fitted all the etching parameters including CD bias and profile

and it also be imported into quantity production.

关键词

Keywords

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