基于DOE的TFT-LCD切换残影不良改善研究

陶雄; 王云志; 李莹; 杨德波; 何云川

doi:10.3788/YJYXS20183302.0123

您当前的位置：

首页 >

文章列表页 >

基于DOE的TFT-LCD切换残影不良改善研究

材料与器件 | 更新时间：2020-07-06

- 基于DOE的TFT-LCD切换残影不良改善研究
- Improvement of TFT-LCD image-retention based on DOE
- 液晶与显示 2018年33卷第2期页码：123-128
- 作者机构：
  
  重庆京东方光电科技有限公司, 重庆 400714
- 作者简介：
  
  [ "陶雄(1989-), 男, 云南丘北人, 硕士研究生, 主要从事液晶显示面板的新产品导入和不良解析相关工作。E-mail:taoxiong@boe.com.cn" ]
- 基金信息：
- DOI：10.3788/YJYXS20183302.0123
  中图分类号： TN141.9
- 收稿日期：2017-06-26，
  
  录用日期：2017-10-27，
  
  纸质出版日期：2018-02-05
- 稿件说明：
移动端阅览
陶雄, 王云志, 李莹, 等. 基于DOE的TFT-LCD切换残影不良改善研究[J]. 液晶与显示, 2018,33(2):123-128.

Xiong TAO, Yun-zhi WANG, Ying LI, et al. Improvement of TFT-LCD image-retention based on DOE[J]. Chinese journal of liquid crystals and displays, 2018, 33(2): 123-128.
陶雄, 王云志, 李莹, 等. 基于DOE的TFT-LCD切换残影不良改善研究[J]. 液晶与显示, 2018,33(2):123-128. DOI： 10.3788/YJYXS20183302.0123.

Xiong TAO, Yun-zhi WANG, Ying LI, et al. Improvement of TFT-LCD image-retention based on DOE[J]. Chinese journal of liquid crystals and displays, 2018, 33(2): 123-128. DOI： 10.3788/YJYXS20183302.0123.

摘要

为降低TFT-LCD生产过程中切换残影不良的发生率，在考虑残影的主要影响因素基础上，采用实验设计（DOE）中的部分因子实验设计筛选该不良的显著因子，结合生产实际开展切换残影的改善研究工作。研究结果表明：DOE方法能有效辨别残影不良的显著因子有覆盖层（Over coater，OC）、重叠部分（ITO-Vcom Overlay，OL）和摩擦扭转力（Rubbing Torque），在实际生产的不良改善过程中，彩膜玻璃（Color Filter，CF）增加OC、加大OL和提高Rubbing Torque值均能有效降低残影不良发生率；研究结果为切换残影和改善TFT-LCD生产过程中其他不良提供了新思路。

Abstract

To reduce the occurrence of TFT-LCD image-retention

several key factors were approved with fractional factorial design adopting the design of experiment (DOE). Through the practical production

we solved the problem about the image-retention. The results showed that the prominent factors of image-retention

including OC

OL and Rubbing Torque

can be effectively distinguished by DOE method. Moreover

by adding OC on CF

enlarging and ITO-Vcom Overlay

or increasing Rubbing Torque value

the incidence of image-retention during improvement can be effectively reduced. This study provided a new idea for other defect researches in image-retention and TFT-LCD production process.

关键词

Keywords

references

王新久.液晶光学和液晶显示[M].北京:科学出版社, 2006.

WANG X J. Liquid Photology and Liquid Display [M]. Beijing:Science Press, 2006. (in Chinese)

HUH L, CHU L W, KUO P S, et al . Algorithm for regional Mura reduction by using gamma-curve transformation in LCD panels[J]. SID Symposium Digest of Technical Papers , 2015, 46(1):1312-1315.

马群刚.TFT-LCD原理与设计[M].北京:电子工业出版社, 2011.

MA Q G. Principle and Design of TFT-LCD [M]. Beijing:Publishing House of Electronics Industry, 2011. (in Chinese).

范恒亮, 汤展峰, 刘利萍, 等. TFT-LCD残影不良的研究与改善[J].液晶与显示, 2016, 31(3):270-275.

FAN H L, TANG Z F, LIU L P, et al . Research and improvement of TFT-LCD image-retention[J]. Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays , 2016, 31(3):270-275. (in Chinese)

雷刚, 王希杰, 张攀.基于DOE的汽车碰撞优化分析[J].重庆理工大学学报:自然科学, 2011, 25(2):8-12.

LEI G, WANG X J, ZHANG P. Optimal analysis of vehicle crash based on DOE[J]. Journal of Chongqing University of Technology (Natural Science), 2015, 25(2):8-12. (in Chinese)

胡守超, 崔凯, 李广利, 等.基于实验设计方法的高超声速飞机前缘型线优化分析[J].力学学报, 2016, 48(2):290-299.

HU S C, CUI K, LI G L, et al . Optimization and analysis of the leading edge shape for hypersonic airplanes based on DOE methods[J]. Chinese Journal of Theoretical and Applied Mechanics , 2016, 48(2):290-299. (in Chinese)

钟文慧. DOE技术在水泥助磨剂配方设计中的应用[J].鄂州大学学报, 2016, 23(3):94-96.

ZHONG W H. Application of DOE technology in the formulation of cement grinding aids[J]. Journal of Ezhou University , 2016, 15(3):13-15. (in Chinese)

王昌明. 基于DOE的雾化控制系统设计[D]. 广州: 华南理工大学, 2015.

WANG C M. The design of atomizing dose control system based on DOE[D]. Guangzhou: South China University of Technology, 2015. (in Chinese)

浏览量

100

下载量

CSCD

文章被引用时，请邮件提醒。

提交

工具集

关联资源

暂无数据