叠层方式形成彩色滤光片隔垫物的研究

舒适; 齐永莲; 徐传祥; 张锋; 崔承镇

doi:10.3788/YJYXS20173212.0956

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叠层方式形成彩色滤光片隔垫物的研究

材料科学 | 更新时间：2020-07-07

- 叠层方式形成彩色滤光片隔垫物的研究
- Forming photo spacer by layer stacking on TFT-LCD CF substrate
- 液晶与显示 2017年32卷第12期页码：956-960
- 作者机构：
  
  京东方科技集团股份有限公司技术研发中心, 北京 100176
- 作者简介：
  
  [ "舒适(1984-), 男, 江苏镇江人, 硕士, 主要从事液晶显示器件彩膜工艺的研发工作。E-mail:shushi@boe.com.cn" ]
- 基金信息：
  
  京东方科技集团股份有限公司研发项目基金(2013013);BOE R&D Project Fund(2013013)
- DOI：10.3788/YJYXS20173212.0956
  中图分类号： O472+.1
- 收稿日期：2017-06-01，
  
  录用日期：2017-7-8，
  
  纸质出版日期：2017-12-05
- 稿件说明：
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舒适, 齐永莲, 徐传祥, 等. 叠层方式形成彩色滤光片隔垫物的研究[J]. 液晶与显示, 2017,32(12):956-960.

Shi SHU, Yong-lian QI, Chuan-xiang XU, et al. Forming photo spacer by layer stacking on TFT-LCD CF substrate[J]. Chinese journal of liquid crystals and displays, 2017, 32(12): 956-960.
舒适, 齐永莲, 徐传祥, 等. 叠层方式形成彩色滤光片隔垫物的研究[J]. 液晶与显示, 2017,32(12):956-960. DOI： 10.3788/YJYXS20173212.0956.

Shi SHU, Yong-lian QI, Chuan-xiang XU, et al. Forming photo spacer by layer stacking on TFT-LCD CF substrate[J]. Chinese journal of liquid crystals and displays, 2017, 32(12): 956-960. DOI： 10.3788/YJYXS20173212.0956.

摘要

本文研究了液晶显示面板彩色滤光片工艺中以叠层方式形成隔垫物的关键技术问题，即叠层隔垫物高度控制、主-附隔垫物段差的形成和主-附隔垫物段差受后续平坦层工艺的影响变化等，并提出了解决方案。在黑矩阵、红色、绿色、蓝色滤光层形成一定的叠层高度后，采用形貌追随型平坦化材料对像素区平坦，通过控制像素开口部分OC的厚度，可以实现叠层隔垫物高度的控制。采用改变叠层图案设计的方法形成主-副隔垫物高度差（Main-sub段差），段差达成范围是0.4~1.2

m，达到了灰阶曝光方式可以达到段差的水平，但成本却大幅降低。并且验证了采用形貌追随型OC材料覆盖可以较好的保持OC工艺前形成的Main-sub段差。基于以上技术制备了4 Mask彩色滤光片原型机。

Abstract

The key issue of forming photo spacer by layer stacking on TFT-LCD CF substrate

such as height control

main-sub difference tuning and the variation of main-sub different after OC process is investigated. Corresponding solution has been proposed. A shape-following OC material is used to control PS height by tuning OC thickness

which indicates that the thickness of BM

Red

Green

Blue layer won't has to be changed to achieve certain stacking height. The main-sub difference can be acquired by changing pattern size of each Stacking layers. The tuning range of main-sub difference is 0.4~1.2

which already reaches the level of half tone mask technology

but at much lower cost. It is confirmed that the main-sub difference formed by BM/R/G/B layer stacking can be maintained after OC process. A prototype of 4 mask Color filter is fabricated

based on stacking photo spacer technology.

关键词

Keywords

references

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