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非晶铟镓锌氧薄膜晶体管银/钛源漏电极的研究
材料与器件 | 更新时间:2020-08-12
    • 非晶铟镓锌氧薄膜晶体管银/钛源漏电极的研究

    • Ag/Ti source/drain electrodes for amorphous InGaZnO thin flim transistors

    • 液晶与显示   2016年31卷第4期 页码:375-379
    • DOI:10.3788/YJYXS20163104.0375    

      中图分类号: TN321+.5
    • 收稿日期:2015-12-17,

      修回日期:2015-12-31,

      纸质出版日期:2016-04-05

    移动端阅览

  • 吴崎, 许玲, 董承远. 非晶铟镓锌氧薄膜晶体管银/钛源漏电极的研究[J]. 液晶与显示, 2016,31(4): 375-379 DOI: 10.3788/YJYXS20163104.0375.

    WU Qi, XU Ling, DONG Cheng-yuan. Ag/Ti source/drain electrodes for amorphous InGaZnO thin flim transistors[J]. , 2016,31(4): 375-379 DOI: 10.3788/YJYXS20163104.0375.

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