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黑矩阵扩散法修复亮点理论模型及影响因素分析
材料与器件 | 更新时间:2020-08-12
    • 黑矩阵扩散法修复亮点理论模型及影响因素分析

    • Model of BM diffusion method and effect actors analysis in bright dot repair

    • 液晶与显示   2016年31卷第2期 页码:164-172
    • DOI:10.3788/YJYXS20163102.0164    

      中图分类号: TN24;TN942
    • 收稿日期:2015-10-20,

      修回日期:2015-11-17,

      纸质出版日期:2016-02-05

    移动端阅览

  • 魏平玉, 李涛, 徐敏等. 黑矩阵扩散法修复亮点理论模型及影响因素分析[J]. 液晶与显示, 2016,31(2): 164-172 DOI: 10.3788/YJYXS20163102.0164.

    WEI Ping-yu, LI Tao, XU Min etc. Model of BM diffusion method and effect actors analysis in bright dot repair[J]. , 2016,31(2): 164-172 DOI: 10.3788/YJYXS20163102.0164.

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