您当前的位置:
首页 >
文章列表页 >
L0周边Mura分析及其改善研究
材料物理和化学 | 更新时间:2020-08-12
    • L0周边Mura分析及其改善研究

    • Research and improvement of L 0 side Mura

    • 液晶与显示   2014年29卷第5期 页码:668-673
    • DOI:10.3788/YJYXS20142905.0668    

      中图分类号: TN87
    • 收稿日期:2014-01-01,

      修回日期:2014-02-24,

      纸质出版日期:2014-10-05

    移动端阅览

  • 王志龙, 郑英花, 马亮, 朱载荣, 孙鹏, 廖燕平. L0周边Mura分析及其改善研究[J]. 液晶与显示, 2014,29(5): 668-673 DOI: 10.3788/YJYXS20142905.0668.

    WANG Zhi-long, ZHENG Ying-hua, MA Liang, ZHU Zai-rong, SUN Peng, LIAO Yan-ping. Research and improvement of L 0 side Mura[J]. , 2014,29(5): 668-673 DOI: 10.3788/YJYXS20142905.0668.

  •  
  •  

0

浏览量

117

下载量

4

CSCD

文章被引用时,请邮件提醒。
提交
工具集
下载
参考文献导出
分享
收藏
添加至我的专辑

相关文章

温度及盒厚对PS特性的影响
按压修复异物晕不良的影响因素
TFT-LCD边缘暗带不良机理研究与改善
液晶屏低灰阶下显示不均的改善和研究

相关作者

石雄鹰
徐文磊
程志伟
尹海斌
黄想
尹磊
陈平
冯川

相关机构

武汉京东方光电科技有限公司
合肥京东方光电科技有限公司
合肥鑫晟光电科技有限公司
北京京东方专用显示科技有限公司
合肥京东方光电科技有限公司
0