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ODF工艺中液晶滴下量的优化
器件制备技术及器件物理 | 更新时间：2020-08-12

    • ODF工艺中液晶滴下量的优化

    • Optimization of LC Drop Amount in ODF and PS Process

    • 液晶与显示   2011年26卷第3期 页码：324-328

    • DOI：10.3788/YJYXS20112603.0324    

      中图分类号： TN141.9

    • 收稿日期：2010-12-08，

      修回日期：2011-02-09，

      网络出版日期：2011-06-20，

      纸质出版日期：2011-06-20

    移动端阅览

  • 杨国波, 王永茂, 王向楠, 程石, 石天雷. ODF工艺中液晶滴下量的优化[J]. 液晶与显示, 2011,26(3): 324-328 DOI： 10.3788/YJYXS20112603.0324.

    YANG Guo-bo, WANG Yong-mao, WANG Xiang-nan, CHENG Shi, SHI Tian-lei. Optimization of LC Drop Amount in ODF and PS Process[J]. , 2011,26(3): 324-328 DOI： 10.3788/YJYXS20112603.0324.

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