不同氧气分压下的MOCVD法氧化锌薄膜生长

赵春雷; 杨小天; 王 超; 唐 魏; 杨 佳; 高晓红

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不同氧气分压下的MOCVD法氧化锌薄膜生长

器件制备技术及器件物理 | 更新时间：2020-08-12

- 不同氧气分压下的MOCVD法氧化锌薄膜生长
- Zinc Oxide Films Growth by MOCVD Under Different Oxygen Partial Pressures
- 液晶与显示 2010年25卷第5期页码：706-708
- 作者机构：
  
  吉林建筑工程学院电气与电子信息工程学院,吉林长春 130021
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  教育部优秀人才支持计划项目 (No.05-0326)();国家自然科学基金项目 (No. 60876013)();长春市科学技术局项目(No.2006303)();吉林
- DOI：
  中图分类号： TN304.2+1
- 收稿日期：2010-04-02，
  
  修回日期：2010-05-13，
  
  网络出版日期：2010-09-28，
  
  纸质出版日期：2010-10-20
- 稿件说明：
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赵春雷, 杨小天, 王超, 唐魏, 杨佳, 高晓红. 不同氧气分压下的MOCVD法氧化锌薄膜生长[J]. 液晶与显示, 2010,25(5): 706-708

ZHAO Cun-lei, YANG Xiao-tian, WANG Chao, TANG Wei, YANG Jia, GAO Xiao-hong. Zinc Oxide Films Growth by MOCVD Under Different Oxygen Partial Pressures[J]. 液晶与显示, 2010,25(5): 706-708
赵春雷, 杨小天, 王超, 唐魏, 杨佳, 高晓红. 不同氧气分压下的MOCVD法氧化锌薄膜生长[J]. 液晶与显示, 2010,25(5): 706-708 DOI：

ZHAO Cun-lei, YANG Xiao-tian, WANG Chao, TANG Wei, YANG Jia, GAO Xiao-hong. Zinc Oxide Films Growth by MOCVD Under Different Oxygen Partial Pressures[J]. 液晶与显示, 2010,25(5): 706-708 DOI：

摘要

采用金属有机化学气相沉积方法

在不同氧气分压下

对硅衬底氧化锌薄膜材料生长做了研究。X-射线衍射方法对氧化锌薄膜的结晶质量做了比对测试。测试结果表明薄膜是沿着(002)方向生长。利用光荧光谱测试分析

对薄膜的发光特性做了研究

研究发现随着氧气分压增大

薄膜的紫外发光峰增强。通过原子力显微镜测试

对薄膜的表面形貌做了观察

发现结晶颗粒的平均粗糙度、均方根

以及平均直径随着氧气分压的增大呈现逐渐变小的趋势。

Abstract

ZnO thin films were grown on Si substrates by metal-organic chemical vapor deposition under different oxygen partial pressures

and the properties of the films were studied. It was found sharp diffraction peaks for ZnO (002) by X-ray diffraction

indicating the films were highly

-axis-oriented. The photoluminescence spectra of the ZnO films were studied. The surface morphology was studied by the atomic force microscopy. It was found that the ZnO films grew in a column-by-column process. The average grain size and the root-mean-square values for the film-surface morphology were decreasing with the increasing oxygen partial pressure.

关键词

Keywords

references

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