您当前的位置:
首页 >
文章列表页 >
铁电阴极低真空电子发射性能的分析
器件制备技术及器件物理 | 更新时间:2020-08-12
    • 铁电阴极低真空电子发射性能的分析

    • Analysis on Electron Properties of Ferroelectric Cathode Under Low Pressure

    • 液晶与显示   2009年24卷第2期 页码:174-178
    • 中图分类号: TN141
    • 收稿日期:2008-10-30,

      修回日期:1900-01-02,

      网络出版日期:2009-04-30,

      纸质出版日期:2009-04-30

    移动端阅览

  • 蔡雪梅;周应华;吴贵能. 铁电阴极低真空电子发射性能的分析[J]. 液晶与显示, 2009,24(2): 174-178 DOI:

    CAI Xue-mei;ZHOU Ying-hua;WU Gui-neng. Analysis on Electron Properties of Ferroelectric Cathode Under Low Pressure[J]. 液晶与显示, 2009,24(2): 174-178 DOI:

  •  
  •  

0

浏览量

40

下载量

0

CSCD

文章被引用时,请邮件提醒。
提交
工具集
下载
参考文献导出
分享
收藏
添加至我的专辑

相关文章

暂无数据

相关作者

暂无数据

相关机构

暂无数据
0