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偏光片褪色问题中氮化硅薄膜沉积的关键影响因子
器件物理及器件制备 | 更新时间：2025-12-24

    • 偏光片褪色问题中氮化硅薄膜沉积的关键影响因子

    • Key influencing factors of silicon nitride thin film deposition in polarizer bleaching issue

    • “在柔性有机发光二极管领域，专家通过全因子实验设计，揭示了射频功率和电极间距对偏光片褪色行为的影响机制，为提升设备湿热环境下可靠性提供解决方案。”
    • 液晶与显示   2025年40卷第12期 页码：1800-1809

    • DOI：10.37188/CJLCD.2025-0200    

      中图分类号： TN27;TB79
    • CSTR：32172.14.CJLCD.2025-0200    

    • 收稿：2025-09-25，

      修回：2025-10-22，

      纸质出版：2025-12-05

    移动端阅览

  • 王志强, 谈耀宏, 孙文, 等. 偏光片褪色问题中氮化硅薄膜沉积的关键影响因子[J]. 液晶与显示, 2025,40(12):1800-1809. DOI： 10.37188/CJLCD.2025-0200. CSTR： 32172.14.CJLCD.2025-0200.

    WANG Zhiqiang, TAN Yaohong, SUN Wen, et al. Key influencing factors of silicon nitride thin film deposition in polarizer bleaching issue[J]. Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays, 2025, 40(12): 1800-1809. DOI： 10.37188/CJLCD.2025-0200. CSTR： 32172.14.CJLCD.2025-0200.

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