El revestimiento eficiente de puntos cuánticos (QDs) con dióxido de silicio ha estado durante mucho tiempo limitado por la atenuación de la fluorescencia causada por tensioactivos tradicionales. La razón fundamental es que las cabezas polares de los tensioactivos tradicionales (cadenas de polietileno, grupos hidroxilo, etc.) tienen capacidad de coordinación y se unen a los átomos metálicos de los QDs como Zn y Cd, desplazando a los ligandos originales (como el ácido oleico), lo que provoca la caída de los ligandos y la formación de estados de defectos en la superficie. En este estudio, se propone un método de microemulsión inversa "sin jabón" que elimina completamente los tensioactivos anfifílicos tradicionales, utilizando un doble aditivo de isopentanol/etilenglicol que forma una película interfacial estable a través del autoensamblaje en la interfaz agua-aceite, construyendo un nanorreactor sin tensioactivos anfifílicos tradicionales y logrando con éxito el recubrimiento eficiente de puntos cuánticos CdSe/ZnS con dióxido de silicio. Los estudios sistemáticos muestran que el rendimiento cuántico de fotoluminiscencia (PLQY) del material compuesto QD@SiO2 preparado con este método se mantiene entre 78,7% y 80,6%, mucho más alto que el método tradicional TritonX-100, que es de 26%. La microscopía electrónica de transmisión muestra un grosor uniforme de la capa de SiO2 (14.7 nm) y una excelente dispersión de partículas. Tras 250 horas de prueba de envejecimiento a la luz azul con una potencia inicial de 1.0 mW (t=0), la retención de potencia de la luz verde alcanza el 93%, notablemente mejor que el 55% obtenido con el método tradicional. Este estudio explica desde la perspectiva termodinámica y cinética de la interfaz el mecanismo de formación del nanorreactor sin tensioactivos anfifílicos tradicionales y su mecanismo de protección del rendimiento óptico de los puntos cuánticos, proporcionando una nueva vía para la síntesis controlada de materiales compuestos de puntos cuánticos de alta luminosidad y larga vida útil.

puntos cuánticos;revestimiento de dióxido de silicio;tensioactivos;método de microemulsión inversa;estabilidad de fluorescencia;estructura núcleo-cáscara