Los diodos emisores de luz de puntos cuánticos (QLED) se consideran candidatos sólidos para dispositivos de visualización de próxima generación con alta resolución y bajo consumo de energía debido a su alta pureza de color, alta eficiencia lumínica, buena estabilidad, procesamiento en solución, ajuste total de color y buena compatibilidad con los procesos existentes. La realización de patrones de puntos cuánticos es un requisito previo para sus aplicaciones en pantalla, lo que ha dado lugar a diversas tecnologías de fotolitografía. Actualmente, la tecnología de patrones QLED está evolucionando desde métodos tradicionales complejos, como la fotolitografía convencional y la impresión por chorro de tinta, que dañan el rendimiento, hacia métodos de fotolitografía directa de alta resolución y sin daños. Este artículo revisa los principios básicos de la tecnología de fotolitografía directa de puntos cuánticos, enfocándose en el mecanismo de reticulación de tres grupos fotosensibles (azida, azo, enlaces disulfuro), el rendimiento de la fotolitografía y su impacto en el rendimiento de QLED, así como predice las tendencias futuras del desarrollo tecnológico de la fotolitografía directa de puntos cuánticos y las direcciones de desarrollo en pantallas QLED, proporcionando una referencia significativa para el desarrollo futuro de la tecnología de pantallas QLED con patrones.

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