Para ciertos defectos puntuales específicos en sustratos TFT con una tasa de incidencia de aproximadamente 0.23% que no pueden ser reparados, se propone un método para cubrir los píxeles defectuosos utilizando un material遮光膜 negro curable por UV. Este método puede ser utilizado para reparar todos los defectos puntuales, mejorando significativamente la capacidad de reparación de puntos oscuros en el sustrato. Primero, mediante una serie de experimentos como detección por encendido, observación microscópica y análisis de haz de iones focalizados, se verificó la viabilidad de la reparación de oscurecimiento de píxeles defectuosos mediante el recubrimiento con el material遮光膜; luego, mediante experimentos comparativos se investigaron los parámetros clave para lograr el oscurecimiento, que son la tasa de遮光膜 y la altura de recubrimiento, explorando el impacto de tres factores: intensidad infrarroja, tiempo de exposición infrarroja y presión de extrusión; finalmente, se introdujo el método de análisis de superficie de respuesta, se construyó un modelo predictivo de respuesta correspondiente a la tasa de遮光膜 y la altura del recubrimiento y se verificó comparándolo con los datos experimentales. Se determinó que los parámetros óptimos son: intensidad infrarroja del 87.9%, tiempo de exposición infrarroja de 2488 ms y presión de extrusión de 0.0158 MPa. Según los resultados experimentales, se realizaron pruebas de producción en masa, logrando una tasa de éxito del 98% en la reparación de defectos puntuales en sustratos TFT causados por diferentes factores.

Sustrato TFT; reparación de puntos oscuros;遮光膜 física; calentamiento infrarrojo; método de superficie de respuesta