В статье рассматривается проблема выцветания поляризационной пленки в гибких органических светоизлучающих диодах (OLED) в условиях влажной и теплой среды. Исследованы ключевые факторы, влияющие на процесс осаждения нитридосиликоновых пленок методом плазмоусиленной химической газовой фазовой депозиции (PECVD). Полнофакторный экспериментальный план позволил систематически проанализировать механизмы влияния радиочастотной мощности и расстояния между электродами на свойства пленки и поведение выцветания поляризационной пленки. Результаты показали, что радиочастотная мощность (P=0.006) и расстояние между электродами (P=0.023) являются значимыми факторами, влияющими на выцветание поляризационной пленки; степень выцветания отрицательно коррелирует с радиочастотной мощностью и положительно — с расстоянием между электродами. Построенная линейная модель объясняет 89.88% вариаций. Связь между напряжением в пленке и выцветанием поляризационной пленки статистически незначима (P=0.169), что указывает на то, что они являются параллельными ответными переменными процесса. Содержание связанного водорода в азотно-водородных и кремний-водородных связях в нитридосиликоновой пленке сильно положительно коррелирует с выцветанием поляризационной пленки (P=0.007, R²=79.1%). Пиковое напряжение, являющееся ключевым показателем способности плазмы к диссоциации, имеет значимую отрицательную корреляцию с содержанием связанного водорода (P=0.015). Повышение радиочастотной мощности и уменьшение расстояния между электродами значительно увеличивают пиковое напряжение, что эффективно снижает содержание связанного водорода в нитридосиликоновой пленке, способствует формированию более плотной и стабильной структуры пленки, сокращая выделение аммиака вследствие окислительного разрушения пленки в условиях влажной и теплой среды. Это уменьшает дальнейшее взаимодействие с ионами йода в поляризационной пленке, что в конечном итоге подавляет выцветание пленки и существенно повышает надежность гибких OLED в таких условиях.

выцветание поляризационной пленки; плазмоусиленная химическая газовая фазовая депозиция; нитрид кремния; радиочастотная мощность; расстояние между электродами; содержание связанного водорода; пиковое напряжение