Квантово-точечные светодиоды (QLED) считаются перспективными кандидатами для следующего поколения высокоразрешающих и энергоэффективных дисплейных устройств благодаря высокой цветовой чистоте, высокой эффективности свечения, хорошей стабильности, возможности обработки в растворе, полноцветной настройке и хорошей совместимости с существующими технологиями. Реализация паттернирования квантовых точек является предпосылкой для их дисплейных применений, что привело к появлению различных фотолитографических технологий. В настоящее время технологии паттернирования QLED развиваются от традиционных сложных процессов фотолитографии и струйной печати, которые приводят к повреждению характеристик, к методам высокоразрешающей и безповреждающей прямой фотолитографии. В статье рассматриваются основные принципы технологии прямой фотолитографии квантовых точек, с акцентом на механизмы отверждения трех фоточувствительных групп (азиди, азо, дисульфид), фотолитографические характеристики и их влияние на производительность QLED, а также прогнозируется тенденции развития технологий прямой фотолитографии квантовых точек и направления развития QLED-дисплеев, что имеет важное справочное значение для будущего развития технологий паттернированных QLED дисплеев.

квантовые точки; прямая фотолитография; паттернирование; QLED; фотолитографические сшивающие агенты