Микро- и наноструктуры играют важную роль во многих областях, особенно в оптике, сенсорах и дисплеях. Несмотря на существование различных технологий для изготовления микро- и наноструктур, задача создания таких структур простым и недорогим способом остаётся актуальной. В этой работе предложена схема проектирования на основе паттернированных бенстокристаллов, которая успешно реализует изготовление масок по требованию. Конкретно, используя анизотропное поглощение поляризованного света бенстокристаллами и технологию ориентации света для управления распределением направлений молекул жидких кристаллов, реализуется пространственное регулирование интенсивности падающего светового поля и формирование паттернированных масок. Вводя их в систему прямой лазерной записи, успешно сформированы микро- и наноструктуры различных геометрических форм на поверхности фоторезиста. Полученные структуры высоко соответствуют разработанным маскам, демонстрируя возможность изготовления структур микрометрового размера (размеры элементов 5 мкм), а также полученные жидкокристаллические решётки на основе микро- и наноструктур стабильно дифрагируют при коротковолновых условиях. Эти результаты дополнительно подтверждают, что разработанные жидкокристаллические маски способны точно регулировать пространственное распределение светового поля и обеспечивают точный контроль интенсивности падающего света. Исследование предлагает новый подход к экономичной и практичной обработке микроструктур и может способствовать развитию технологий быстрого массового изготовления сложных микро- и наноструктур.

бенстокристаллы;маска;ориентация света;микро- и наноструктуры