Os diodos emissores de luz de pontos quânticos (QLED) são considerados fortes candidatos para dispositivos de exibição de próxima geração com alta resolução e baixo consumo de energia, devido à sua alta pureza de cor, alta eficiência de emissão, boa estabilidade, processamento em solução, ajuste total de cores e boa compatibilidade com os processos existentes. A realização da padronização dos pontos quânticos é um pré-requisito para suas aplicações em exibição, o que levou ao surgimento de diversas técnicas de litografia. Atualmente, a tecnologia de padronização de QLED está evoluindo de métodos complexos de preparação que prejudicam o desempenho, como a litografia tradicional e a impressão por jato de tinta, para métodos de alta resolução e sem danos, como a litografia direta. Este artigo revisa os princípios básicos da tecnologia de litografia direta de pontos quânticos, com foco nos mecanismos de reticulação de três grupos fotossensíveis (azida, azo, ligações dissulfeto), desempenho da litografia e seu impacto no desempenho do QLED. Também prevê as tendências futuras para o desenvolvimento da tecnologia de litografia direta de pontos quânticos e a evolução de displays QLED, proporcionando uma referência para o desenvolvimento futuro da tecnologia de displays QLED padronizados.

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