Para certos defeitos pontuais específicos em substratos TFT com uma taxa de ocorrência de aproximadamente 0,23% que não podem ser reparados, propõe-se um método de cobertura dos pixels brilhantes utilizando um material遮光膜 preto curável por UV. Este método pode ser usado para reparar todos os defeitos pontuais, melhorando significativamente a capacidade de reparo de pontos escuros no substrato. Primeiramente, através de uma série de experimentos como detecção por iluminação, observação microscópica e análise por feixe de íons focalizado, verificou-se a viabilidade do reparo de pontos escuros cobrindo os pixels brilhantes com o material遮光膜; em seguida, por meio de experimentos comparativos, investigaram-se os principais parâmetros de controle para alcançar o escurecimento, que são a taxa de遮光膜 e a altura da aplicação, explorando-se o efeito da intensidade infravermelha, do tempo de exposição infravermelha e da pressão de extrusão sobre esses fatores; finalmente, foi introduzido o método de análise da superfície de resposta, construindo um modelo preditivo de resposta correspondente à taxa de遮光膜 e à altura da aplicação e comparando-o com os dados experimentais. Determinaram-se os parâmetros ótimos do processo como intensidade infravermelha de 87,9%, tempo de exposição infravermelha de 2.488 ms e pressão de extrusão de 0,0158 MPa. Com base nos resultados experimentais, foram realizados testes para produção em massa, alcançando uma taxa de sucesso de 98% na reparação de defeitos pontuais em substratos TFT causados por diferentes fatores.

Substrato TFT; reparo de pontos escuros;遮光膜 física; aquecimento infravermelho; método de superfície de resposta