A microscopia pitográfica de Fourier (Fourier Ptychographic Microscopy, FPM) adquire um conjunto de imagens de intensidade de baixa resolução sob diferentes ângulos de iluminação e utiliza a síntese de abertura e recuperação de fase para fundi-las, alcançando um campo amplo de visão e uma imagem quantitativa de alta resolução. A posição precisa do espectro é um conhecimento a priori importante para o algoritmo de reconstrução e crucial para obter imagens reconstruídas de alta qualidade. Portanto, a correção da pose da fonte de iluminação que determina a posição espectral da imagem torna-se um trabalho importante para realizar um sistema FPM robusto. Nos últimos anos, vários métodos para correção da pose da fonte de iluminação foram propostos: o método de correção mecânica utilizando uma plataforma mecânica de alta precisão com múltiplos graus de liberdade, o método de correção orientado por dados com base na intensidade das imagens adquiridas ou nas informações espectrais, e o método de correção baseado no mecanismo de formação de imagem e nos princípios ópticos do microscópio. Este artigo apresenta brevemente os princípios básicos da FPM e o desvio da pose da fonte, e revisa os princípios e características dos três métodos de correção. O método de correção mecânica pode eliminar desvios na origem, mas é trabalhoso; o método orientado por dados pode corrigir automaticamente desvios da pose, mas apresenta problemas de tempo de correção longo e acoplamento de parâmetros; o método baseado no mecanismo de formação de imagens não só apresenta alta robustez na correção, mas também pode separar com precisão os parâmetros de pose de vários erros do sistema, sendo um método com grande potencial de desenvolvimento e aplicação.

Microscopia pitográfica de Fourier;imagem óptica computacional;recuperação de fase;correção de pose