Estudou-se o efeito da camada de nitreto de silício no substrato TFT sobre o viés de cor da tela branca em ângulo lateral do produto final TFT-LCD, preenchendo a lacuna na pesquisa entre as camadas TFT e o viés de cor da tela branca em ângulo lateral do TFT-LCD, fornecendo uma referência útil para a melhoria de defeitos ópticos semelhantes. Por meio de muitos testes experimentais e simulações, explorou-se a influência da espessura da camada de óxido de silício no viés de cor da tela branca em ângulo lateral. Os resultados mostram que a camada de nitreto de silício é um fator chave que afeta a quantidade e a direção do viés de cor, onde a camada isolante do gate (GI) e a primeira camada isolante de passivação (PVX1) têm grande impacto, enquanto a segunda camada isolante de passivação (PVX2) tem impacto menor. A espessura do nitreto de silício está correlacionada de forma não linear com o grau de viés de cor da tela branca em ângulo lateral. Como exemplo, em um produto HADS, a camada de nitreto de silício inclui a camada isolante do gate (320 nm), a primeira camada isolante de passivação (100 nm) e a segunda camada isolante de passivação (200 nm). Com base nos resultados de experimentos unifatoriais e simulações, considerando características elétricas e impacto na capacidade produtiva, o PVX1 de 140 nm foi adotado como condição de melhoria, sendo eficaz para melhorar o avermelhamento na tela branca em ângulo lateral, ou seja, não há fenômeno de avermelhamento na observação macroscópica e os dados medidos atendem às especificações do produto.

display de cristal líquido de transistor de filme fino; camada de nitreto de silício; cromaticidade óptica; viés de cor em ângulo lateral; tela totalmente branca