TFT 기판 혁신 遮光膜 수리 및 파라미터 최적화 분석

TAN Siyun ,  

HE Bin ,  

HU Yanyu ,  

JIANG Tengteng ,  

ZHANG Xiaosong ,  

LI Dengtao ,  

LIU Haoran ,  

摘要

TFT 기판에서 발생 확률이 약 0.23%인 특정 점광형 불량이 수리가 불가능한 상황을 해결하기 위해 UV 경화형 검은색 遮光膜 소재를 사용하여 점광 픽셀을 덮는 코팅 방법을 제안하였다. 본 방법은 모든 점광형 불량 수리에 적용 가능하며 기판의 암점화 수리 능력을 크게 향상시킨다. 먼저 점등 검사, 현미경 관찰, 집속 이온 빔 분석 등 일련의 실험을 통해 점광 픽셀을遮光膜 소재로 코팅하여 암점화 수리가 가능한지 검증하였으며, 대조 실험을 통해 암점화에 중요한 제어 인자인遮光률과 코팅 높이를 각각 탐구하고, 적외선 강도, 적외선 작용 시간 및 토출 압력 세 가지 요인의 영향도 조사하였다. 마지막으로 반응면 분석법을 도입하여遮光률과 코팅 높이에 대응하는 반응 예측 모델을 구축하고 실험 데이터와 비교 검증하였으며, 최적 공정 파라미터를 적외선 강도 87.9%, 적외선 작용 시간 2,488 ms, 토출 압력 0.0158 MPa로 도출하였다. 실험 결과를 바탕으로 양산 테스트를 진행한 결과 TFT 기판 내 다양한 원인의 점광형 불량 수리 성공률이 98%에 달했다.

关键词

TFT 기판; 암점화 수리; 물리적 遮光膜; 적외선 가열; 반응면법

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