패턴화된 벤스틱 액정을 기반으로 한 포토리소그래피 마스크 제작

WANG Junhui ,  

LIU Xuan ,  

DUAN Xia ,  

LI Boyuan ,  

YUAN Conglong ,  

ZHENG Zhigang ,  

摘要

마이크로 및 나노 구조는 광학, 센서, 디스플레이 등 다양한 분야에서 중요한 역할을 합니다. 다양한 마이크로 및 나노 구조 제조 기술이 존재하지만, 간단하고 저비용으로 이러한 구조를 구축하는 방법에는 여전히 도전이 있습니다. 이 문제를 해결하기 위해 본 논문에서는 패턴화된 벤스틱 액정을 기반으로 한 설계 방안을 제안하여 맞춤형 마스크 제작에 성공하였습니다. 구체적으로, 벤스틱 액정의 편광 광의 이방성 흡수 특성을 이용하고, 광 배향 기술을 통해 액정 분자의 방향 벡터 분포를 제어하여 입사 광장의 공간적 강도 조절을 실현하고 패턴화된 마스크를 형성하였습니다. 이를 레이저 직접 기록 시스템에 도입하여 포토레지스트 표면에 다양한 기하학적 패턴의 마이크로 및 나노 구조를 성공적으로 형성하였습니다. 제작된 구조는 설계된 마스크와 매우 일치하며, 마이크로미터급(특징 크기 5 μm)의 구조 제작 능력을 보여주고, 마이크로 및 나노 구조 기반 액정 격자는 단파 조건에서 안정적인 회절을 나타냅니다. 본 결과는 개발된 액정 마스크가 공간 광장의 분포를 정밀하게 제어하고 입사 광 강도의 정밀한 제어가 가능함을 추가로 증명합니다. 본 연구는 경제적이고 실용적인 미세 구조 가공에 새로운 아이디어를 제공하며, 복잡한 마이크로 및 나노 구조의 대면적 신속 제작 기술 발전을 촉진할 것으로 기대됩니다.

关键词

벤스틱 액정;마스크;광 배향;마이크로 및 나노 구조

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