325 nm 파장대 적용용 고투과 저분해 액정 재료

LIU Huaiyu ,  

LIU Yonggang ,  

WANG Qidong ,  

MU Quanquan ,  

YANG Xiaodong ,  

PENG Zenghui ,  

摘要

액정 공간 광 변조기는 구동 전압 세기를 변경하여 액정 분자의 배열을 제어함으로써 빛의 변조를 실현합니다. 광중합식 3D 프린팅 등 응용의 부상과 함께 자외선 영역에서 사용 가능한 액정 공간 광 변조기의 중요성이 점점 부각되고 있습니다. 그러나 대부분의 액정 재료는 유기물이며 자외선 영역에서 광흡수 및 광반응이 존재합니다. 액정 재료의 적용 파장을 확장하기 위해 본 논문에서는 적용 파장대에서 자외선 흡수 및 광반응이 일어나지 않는 관능기를 선택하여 325~400 nm 파장대에서 광흡수 및 광반응이 발생하지 않는 액정 재료를 설계하고 액정 재료의 자외선-가시광선 스펙트럼을 시뮬레이션하여 설계의 합리성을 검증하였습니다. 자외선 내성 액정 화합물을 혼합 액정 재료로 조제한 후 일반적으로 사용되는 두 가지 혼합 액정 재료와 자외선 안정성을 비교하였습니다. 325 nm 자외선 광원의 120분 조사 후 액정 재료의 흡광도와 상 전이 온도는 거의 변하지 않았으며, 이중 굴절률 변화는 0.04%, 임계 전압 변화는 1.39%, 응답 시간 변화는 0.32%였습니다.

关键词

액정 재료; 자외선 안정성; 이중 굴절률

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