완전 무기 CsPbX₃ (X = Cl, Br, I) 페로브스카이트 양자점은 우수한 발광 성능을 가지며, 새로운 유망한 디스플레이 소재 및 레이저 증폭 매질입니다. 본 논문에서는 발광 피크가 640 nm인 CsPbBr_1.2I_1.8 적색 양자점을 합성하고, 이 양자점 박막 표면에 각각 다양한 기능기를 가진 고분자인 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 폴리이소부틸메타크릴레이트(PIBMA), 폴리스티렌(PS)을 코팅하여 CsPbBr_1.2I_1.8/PMMA, CsPbBr_1.2I_1.8/PIBMA, CsPbBr_1.2I_1.8/PS 복합 박막을 제작하고, 이들의 증폭 자발 방출 특성을 연구하였습니다. 결과는 고분자 패시베이션이 한편으로는 양자점의 수분 안정성을 향상시키고, 다른 한편으로는 PMMA와 PIBMA 내 산소가 양자점 표면의 미배위 Pb²⁺를 패시베이션하여 양자점 박막의 광발광 세기를 강화함을 보여주었습니다. 더 나아가 532 nm 나노초 레이저 펌프 하에서 CsPbBr_1.2I_1.8/PIBMA 박막의 증폭 자발 방출 역치는 81‍‍‍‍ ‍µJ·cm^-2까지 낮아지고 안정성도 향상되어 새로운 증폭 매질로서의 가능성을 보여주었습니다.

페로브스카이트 양자점; 고분자 패시베이션; 증폭 자발 방출; 안정성