光学ガラス中の残留応力は応力誘起複屈折効果を引き起こし、偏光光に位相遅延を生じさせます。この位相遅延は残留応力の定量的表現を実現する重要なパラメータです。従来の偏光位相反演法が大きな位相遅延範囲で位相判定の不安定性を抱える問題に対し、液晶素子による位相補償を基にした光学ガラスの残留応力偏光イメージング測定法を提案しました。偏光光路に液晶素子を導入し、駆動電圧を連続的に調整し補償位相を調整することで、液晶補償量と被測定ガラスの位相遅延のマッチングを実現します；画像のグレースケール値と背景のグレースケール値の差を評価指標とし、最小の灰度差で最適補償状態を決定し、光学ガラスの位相遅延を取得、応力光学関係と組み合わせて残留応力の反演を行います。実験結果は、駆動電圧3.8Vでシステムが最適補償状態に達し、対応する残留応力は36.235 nm/cmであり、標準的な偏光位相反演法で測定した34.128 nm/cmと比べて相対偏差は6.17％で、両者の結果は良好に一致し、提案手法の有効性を検証しました。

光学ガラス;残留応力;位相遅延;液晶素子;位相補償;偏光イメージング