摘要
TFT基板上で発生率約0.23%の特定の光点型不良で修復不可能な場合に対し、UV硬化型黒色遮光材料を用いて光点ピクセルを遮蔽塗布する方法を提案した。本方法はすべての光点型不良の修復に利用可能であり、基板の暗点化修復能力を大幅に向上させる。まず、点灯検査、顕微鏡観察、集束イオンビーム分析など一連の実験により遮光材料による光点ピクセルの暗点化修復の実現性を検証した。次に、対比実験で暗点化を実現する重要な制御パラメータとして遮光率と塗布高さを探求し、それぞれ赤外線強度、赤外線作用時間、吐出圧力の3つの要因が両者に及ぼす影響を調査した。最後に応答面解析法を導入し、遮光率と塗布高さに対応する応答予測モデルを構築して実験データと比較検証し、最適プロセスパラメータを赤外線強度87.9%、赤外線作用時間2,488ms、吐出圧力0.0158MPaと解析した。実験結果に基づき量産テストを投入し、TFT基板上の異なる誘因による光点型不良の修復成功率は98%に達した。
关键词
TFT基板;暗点化修理;物理的遮光;赤外線加熱;応答面法
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