近接式ステップホログラフィック干渉ステッチング露光による大口径液晶偏光格子の製作

WANG Chen ,  

FANG Qipeng ,  

JIANG Feiyu ,  

LIAO Chengkai ,  

SUN Xiuhui ,  

HU Chao ,  

YIN Shaoyun ,  

摘要

大口径の液晶偏光格子は、その高効率と無慣性の利点により、ビーム指向スキャンモジュールで広く潜在的な応用があります。偏光ホログラフィック干渉露光光路部品の口径に制限があり、単一露光で2インチ(1インチ=2.54cm)以上の口径を持つ液晶偏光格子を製造することは困難です。本稿では、露光基板に近接配置されたマスク版により、単一露光領域の位置を正確に制御する近接式ステップホログラフィック干渉ステッチング露光法を提案します。高精度の移動台を組み合わせて、大口径液晶偏光格子のステップ逐次ステッチング露光を実現しました。本稿で製作した格子のサイズは150mmに達し、ステッチング隙間はわずか26.4μm、回折効率は96.86%に達しました。本稿は大口径ビームの高効率な偏向に新たな視点を提供します。

关键词

液晶偏光格子; ホログラフィック干渉露光; 光配向; 液晶ポリマー

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