摘要
近眼表示分野において、体積ホログラフィック格子は有望な技術として、光の結合/離脱波導デバイスの役割を果たしている。液晶偏光ホログラフィック素子は強い偏光選択性と変換性能を有し、光の結合だけでなく、光スイッチ、レンズ、格子、拡散板、色収差補正素子およびカラ―光学素子等として使用される。本文では、光制御配向技術とホログラフィック光路を組み合わせて液晶偏光ホログラフィック柱状レンズを作製し、その像特性を研究した。斜軸ホログラフィック干渉光路上で平面波と円筒波の干渉法を用い、SD1光制御配向技術によって可変間隔液晶偏光回折レンズを製作した。457 nmレーザーによるホログラフィック露光条件下で21.96°、26.42°、33.20°の3つの露光角度のホログラフィック柱状レンズ試料を作製し、異なる可変間隔周期の液晶偏光レンズに対応した。偏光顕微鏡下で偏光ホログラフィック柱状レンズ格子周期の顕著な変化が観察され、偏光ホログラフィックの柱状集光再現を実現した。液晶偏光レンズの基本的なホログラフィック回折特性と異常分散特性について実験的に分析及び検証した。
关键词
光制御配向;液晶;偏光柱状レンズ;異常分散
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