Réparation innovante par遮光膜 des substrats TFT et analyse d'optimisation des paramètres

TAN Siyun ,  

HE Bin ,  

HU Yanyu ,  

JIANG Tengteng ,  

ZHANG Xiaosong ,  

LI Dengtao ,  

LIU Haoran ,  

摘要

Face à certains défauts ponctuels spécifiques sur substrat TFT présentant un taux d'apparition d'environ 0,23% et non réparables, une méthode de recouvrement des pixels défectueux par un matériau遮光膜 noir durcissable aux UV a été proposée. Cette méthode peut être utilisée pour réparer tous les défauts ponctuels, améliorant considérablement la capacité de réparation des points sombres sur le substrat. Tout d'abord, la faisabilité de la réparation par obscurcissement des pixels défectueux à l'aide de ce matériau遮光膜 a été vérifiée par une série d'expériences telles que la détection par allumage, l'observation au microscope et l'analyse par faisceau d'ions focalisé ; ensuite, des expériences comparatives ont permis de déterminer que les paramètres de contrôle clés pour obtenir l'obscurcissement sont le taux de遮光膜 et la hauteur du revêtement, en étudiant respectivement l'influence de l'intensité infrarouge, du temps d'exposition infrarouge et de la pression d'extrusion ; enfin, la méthode d'analyse de surface de réponse a été introduite, un modèle prédictif a été construit en fonction du taux de遮光膜 et de la hauteur du revêtement, puis validé par comparaison avec les données expérimentales. Les paramètres optimaux ont été déterminés comme suit : intensité infrarouge 87,9%, temps d'exposition infrarouge 2 488 ms, pression d'extrusion 0,0158 MPa. Selon les résultats expérimentaux, un test de production en masse a été réalisé, avec un taux de succès de réparation des défauts ponctuels d'environ 98% sur les substrats TFT dus à différentes causes.

关键词

Substrat TFT; réparation des points sombres;遮光膜 physique; chauffage infrarouge; méthode de surface de réponse

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