Quantendot-Leuchtdioden (QLED) gelten aufgrund ihrer hohen Farbreinheit, hohen Leuchtdichteffizienz, guten Stabilität, Lösungsmittelverarbeitbarkeit, vollfarbigen Einstellbarkeit und guten Kompatibilität mit bestehenden Technologien als vielversprechende Kandidaten für die nächste Generation hochauflösender, energiesparender Anzeigegeräte. Die Realisierung der Musterung von Quantendots ist eine Voraussetzung für deren Anzeigeanwendungen, was zur Entwicklung verschiedener Lithografietechnologien geführt hat. Aktuell entwickelt sich die QLED-Musterungstechnologie von traditionellen, komplexen Verfahren wie konventioneller Lithografie und Tintenstrahldruck, die die Leistung beeinträchtigen, hin zu hochauflösenden, schadensfreien Direktlithografiemethoden. Dieser Artikel gibt einen Überblick über die Grundprinzipien der Direktlithografie von Quantendots, mit Fokus auf den Vernetzungsmechanismus dreier photosensitiver Gruppen (Azid, Azo, Disulfid), die Lithografie-Leistung und deren Einfluss auf die QLED-Leistung, ebenso wie eine Prognose der zukünftigen Entwicklungstrends der Direktlithografie von Quantendots und deren Anwendung in QLED-Anzeigen, was eine wichtige Referenz für die zukünftige Entwicklung der Muster-QLED-Anzeigetechnologie darstellt.

Quantendots; Direktlithografie; Musterung; QLED; photolithographische Vernetzungsmittel