Innovative遮光膜-Reparatur und Parameteroptimierungsanalyse von TFT-Substraten

TAN Siyun ,  

HE Bin ,  

HU Yanyu ,  

JIANG Tengteng ,  

ZHANG Xiaosong ,  

LI Dengtao ,  

LIU Haoran ,  

摘要

Für bestimmte spezifische Punktmängel auf TFT-Substraten mit einer Auftretensrate von etwa 0,23%, die nicht reparabel sind, wird eine Methode vorgeschlagen, bei der UV-härtendes schwarzes遮光膜-Material zur Abdeckung der hellen Pixel verwendet wird. Diese Methode kann zur Reparatur aller Punktmängel eingesetzt werden und verbessert die Fähigkeit zur Reparatur von dunklen Punkten auf dem Substrat erheblich. Zunächst wurde die Machbarkeit der Reparatur durch Abdeckung der hellen Pixel mit遮光膜-Material durch eine Reihe von Experimenten wie Leuchttest, Mikroskopbeobachtung und Fokus-Ionenstrahlanalyse bestätigt; anschließend wurden in Vergleichsexperimenten die wichtigsten Steuerparameter zur Erreichung der Abdunkelung, nämlich遮光率 und Beschichtungshöhe, untersucht und der Einfluss von drei Faktoren - Infrarotintensität, Infrarotwirkzeit und Ausstoßdruck - darauf analysiert; schließlich wurde die Reaktionsflächenmethode eingeführt, um ein Reaktionsprognosemodell für遮光率 und Beschichtungshöhe zu erstellen und mit den experimentellen Daten zu vergleichen, wobei die optimalen Prozessparameter als Infrarotintensität 87,9 %, Infrarotwirkzeit 2.488 ms und Ausstoßdruck 0,0158 MPa ermittelt wurden. Basierend auf den Versuchsergebnissen wurden Massentests durchgeführt, die Erfolgsrate der Reparatur von Punktmängeln auf TFT-Substraten aufgrund verschiedener Ursachen betrug 98%.

关键词

TFT-Substrat; Dunkelpunktreparatur; physikalische遮光膜; Infrarotheizung; Reaktionsflächenmethode

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