Herstellung von photolithographischen Masken basierend auf strukturierten Bentoschicht-Flüssigkristallen

WANG Junhui ,  

LIU Xuan ,  

DUAN Xia ,  

LI Boyuan ,  

YUAN Conglong ,  

ZHENG Zhigang ,  

摘要

Mikro- und Nanostrukturen spielen in vielen Bereichen eine wichtige Rolle, insbesondere in Optik, Sensorik und Displaytechnik. Obwohl verschiedene Technologien zur Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen existieren, stellt die einfache und kostengünstige Herstellung dieser Strukturen weiterhin eine Herausforderung dar. Zur Lösung dieses Problems schlägt dieser Artikel ein Design basierend auf strukturierter Bentoschichts-Flüssigkristall-Technologie vor und realisiert erfolgreich die bedarfsgerechte Herstellung von Masken. Konkret wird durch die anisotrope Absorption von polarisiertem Licht durch bentoschichtige Flüssigkristalle und mittels Lichtorientierungstechnik die Verteilung der Ausrichtungsvektoren der Flüssigkristallmoleküle gesteuert, wodurch die räumliche Intensitätssteuerung des einfallenden Lichtfeldes erfolgt und strukturierte Masken gebildet werden. Durch die Integration in ein Laser-Direktschreibsystem konnten verschieden geformte Mikro- und Nanostrukturen erfolgreich auf der Oberfläche des Fotolacks erzeugt werden. Die hergestellten Strukturen stimmen sehr gut mit den entworfenen Masken überein und zeigen eine Strukturherstellungsfähigkeit im Mikrometerbereich (Merkmalsgröße 5 μm). Zudem können die auf Mikro- und Nanostrukturen basierenden Flüssigkristallgitter unter Kurzwellbedingungen stabil diffraktieren. Diese Ergebnisse bestätigen weiter, dass die entwickelte Flüssigkristallmaske die Verteilung des räumlichen Lichtfelds präzise steuern kann und eine genaue Kontrolle der Lichtintensität des einfallenden Lichts ermöglicht. Die Studie bietet einen neuen Ansatz für die wirtschaftliche und praktische Mikrostrukturverarbeitung und könnte die Entwicklung von Technologien zur schnellen großflächigen Herstellung komplexer Mikro- und Nanostrukturen vorantreiben.

关键词

Bentoschicht-Flüssigkristalle;Maske;Lichtorientierung;Mikro- und Nanostrukturen

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