摘要
لتلبية متطلبات الكشف عالي الدقة للاستقطاب، يحتاج مطياف الاستقطاب القنوي إلى أخذ تأثير الاستقطاب لمجموعة التلسكوبات في الاعتبار عند التصميم، وإجراء التحليل والتحسين المناسبين. أولاً، يتم تحليل عوامل تأثير استقطاب مجموعة التلسكوبات، ويتم بناء نموذج مصفوفة مولر لمجموعة التلسكوبات مع اعتبار تأثير استقطاب طبقة الطلاء باستخدام تحويل الإحداثيات وضرب مصفوفة مولر المتسلسل، ويتم دمجه في نموذج فك تشفير استقطاب مطياف الاستقطاب القنوي. بعد ذلك، من خلال التحكم المتزامن في معدل النفاذية والتأخير الطوري للضوء S و P، يتم تصميم طبقة طلاء ذات تأثير استقطابي منخفض. أخيراً، باستخدام طريقة تتبع أشعة الاستقطاب، يتم محاكاة تأثير الاستقطاب لمجموعة التلسكوبات المطلية بأنظمة طلاء مختلفة. تظهر نتائج المحاكاة أنه عند الأطوال الموجية 580 نانومتر و750 نانومتر، لا يوجد فرق واضح في دقة الكشف الاستقطابي بين طبقات الطلاء ذات التأثير الاستقطابي المنخفض والعالي. أما عند الطول الموجي 420 نانومتر، فقد تحسنت دقة الكشف الاستقطابي في ميدان الرؤية الحافي للطبقة ذات التأثير الاستقطابي المنخفض بنسبة 3.22٪ مقارنة بالطبقات الشائعة. يمكن لطبقة الطلاء ذات التأثير الاستقطابي المنخفض تقليل تأثير استقطاب مجموعة التلسكوبات لمطياف الاستقطاب القنوي بشكل فعال، مما يحسن دقة الكشف الاستقطابي للأداة.
关键词
كاميرا الطيف الاستقطابي;تأثير الاستقطاب;متجه ستوكس;مصفوفة مولر
以上内容由讯飞翻译自动生成，翻译内容仅供参考。对于因使用本网站翻译内容产生的相关后果，本网站不承担任何商业和法律责任。
The above content is generated by Large Model Translation. The translated content is for reference only. We do not assume any commercial or legal responsibilty for any consequences arising from the use of our website